隨著各行各業的發展及科技的進步，人們可以用3D打印創建在人體內傳導藥物的載體，可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創作出精美的珠寶首飾和設計，甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術，而全新推出的Quantum X平臺新型高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的優異性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，北京微納機器人增材制造設備，北京微納機器人增材制造設備，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝縮短了企業的設計迭代，北京微納機器人增材制造設備，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的主要特性和測試方法。北京微納機器人增材制造設備

增材制造技術能夠簡化光學器件的制造流程，縮短交貨期并降低材料消耗。更重要的是，增材制造技術能夠實現功能集成的優化設計方案，尤其在衛星光學系統制造領域，增材制造技術能夠滿足用戶對輕型光學系統不斷增長的需求，并實現下一代高附加值光學器件的制造。通過增材制造技術開發的下一代光學儀器中，將越來越多采用緊湊的功能集成設計，如集成隔熱，冷卻通道，局限的機械和熱接口，以及將光學功能作為設備自身結構的一部分。緊湊集成化設計減少了組件裝配過程中出現問題的風險，同時開辟了制造冷卻光學系統，有源光學系統或自由曲面的新方式。陶瓷增材制造技術的凈成形能力，還能夠提高準確性，改善集成/結合過程的質量。在成就高附加值零件方面，3D打印的應用還包括很多，除了打印極度復雜的結構、打印混合材料，3D打印因為技術種類繁多也帶來了高附加值零件的創新空間，例如3D打印感應器、3D打印多層電路、3D打印電池等等。Nanoscribe作為全球納米制造和精密制造用高精度3D打印制造商，在科研和工業領域有眾多用戶，包括哈佛大學納米系統中心，加州理工學院，倫敦帝國理工學院，蘇黎世聯邦理工大學等。 浙江科研增材制造PPGT雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造。

    QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到比較高水平的生產力和打印質量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。總而言之，該系統拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業行業應用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統（MEMS）等）。

    QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的中心是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。另外，Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統技術要點，這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。 Nanoscribe是一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造專家。

Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構，包括光子集成電路，光纖頂端和預制晶片等。想要了解增材制造和傳統減材制造的區別，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。天津德國增材制造三維微納米加工系統

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。北京微納機器人增材制造設備