Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構，上海高精度增材制造三維微納米加工系統，包括光子集成電路，上海高精度增材制造三維微納米加工系統，光纖頂端和預制晶片等，上海高精度增材制造三維微納米加工系統。增材制造（Additive Manufacturing，AM）技術是采用材料逐漸累加的方法制造實體零件的技術。上海高精度增材制造三維微納米加工系統

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結構增材制造專家，一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統，以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優先領導地位，并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統基礎上進一步擴大產品組合實現多樣化，以滿足不用客戶群的需求。上海高精度增材制造三維微納米加工系統增材制造技術已經應用于多個領域，譬如航天、新材料、先進制造。

隨著各行各業的發展及科技的進步，人們可以用3D打印創建在人體內傳導藥物的載體，可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創作出精美的珠寶首飾和設計，甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術，而全新推出的Quantum X平臺新型高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的優異性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創新性的增材制造工藝縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。

    Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，它推出了一種新型機器QuantumX.新的系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作。“Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史特別悠久，規模比較大的光學系統制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統基于雙光子吸收，這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度比較高。 增材制造和傳統減材制造的區別你知道嗎？想要了解請咨詢Nanoscribe在*的子公司納糯三維。

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統制作的高精度器件圖登上了剛發布的商業微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）。文章中介紹了高精度3D打印，并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創建3D和2.5D微結構制作。增材制造與3D技術有什么區別？想要了解請咨詢Nanoscribe在*的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。上海德國增材制造PPGT

如需了解增材制造技術的信息，請咨詢Nanoscribe在*的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。上海高精度增材制造三維微納米加工系統

世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創新設計。上海高精度增材制造三維微納米加工系統