磁控濺射的基本原理是利用Ar一O2混合氣體中的等離子體在電場和交變磁場的作用下，被加速的高能粒子轟擊靶材表面，能量交換后，靶材表面的原子脫離原晶格而逸出，轉移到基體表面而成膜。磁控濺射的特點是成膜速率高，基片溫度低，膜的粘附性好，可實現大面積鍍膜。該技術可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法，廣州反應磁控濺射過程。磁控濺射是70年代迅速發展起來的一種“高速低溫濺射技術”。磁控濺射是在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁場。當濺射產生的二次電子在陰極位降區內被加速為高能電子后，并不直接飛向陽極，而是在正交電磁場作用下作來回振蕩的近似擺線的運動。高能電子不斷與氣體分子發生碰撞并向后者轉移能量，使之電離而本身變成低能電子。這些低能電子較終沿磁力線漂移到陰極附近而被吸收，避免高能電子對極板的強烈轟擊，消除了二極濺射中極板被轟擊加熱和被電子輻照引起的損傷，體現出磁控濺射中極板“低溫”的特點。由于外加磁場的存在，電子的復雜運動增加了電離率，實現了高速濺射。磁控濺射的技術特點是要在陰極靶面附件產生與電場方向垂直的磁場，廣州反應磁控濺射過程，一般采用永久磁鐵實現，廣州反應磁控濺射過程。在直流二極濺射裝置中增加一個熱陰極和陽極，就構成直流三極濺射。廣州反應磁控濺射過程
磁控濺射的工藝研究：1、功率：每一個陰極都具有自己的電源。根據陰極的尺寸和系統設計，功率可以在0~150KW之間變化。電源是一個恒流源。在功率控制模式下，功率固定同時監控電壓，通過改變輸出電流來維持恒定的功率。在電流控制模式下，固定并監控輸出電流，這時可以調節電壓。施加的功率越高，沉積速率就越大。2、速度：另一個變量是速度。對于單端鍍膜機，鍍膜區的傳動速度可以在每分鐘0~600英寸之間選擇。對于雙端鍍膜機，鍍膜區的傳動速度可以在每分鐘0~200英寸之間選擇。在給定的濺射速率下，傳動速度越低則表示沉積的膜層越厚。3、氣體：較后一個變量是氣體，可以在三種氣體中選擇兩種作為主氣體和輔氣體來進行使用。廣州真空磁控濺射步驟濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好。
非平衡磁控濺射離子轟擊在鍍膜前可以起到清洗工件的氧化層和其他雜質，活化工件表面的作用，同時在工件表面上形成偽擴散層，有助于提高膜層與工件表面之間的結合力。在鍍膜過程中，載能的帶電粒子轟擊作用可達到膜層的改性目的。比如，離子轟擊傾向于從膜層上剝離結合較松散的和凸出部位的粒子，切斷膜層結晶態或凝聚態的優勢生長，從而生更致密，結合力更強，更均勻的膜層，并可以較低的溫度下鍍出性能優良的鍍層。非平衡磁控濺射技術的運用，使平衡磁控濺射遇到的沉積致密、成分復雜薄膜的問題得以解決。
磁控濺射技術的應用：主要用于在經予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、價廉的塑料,陶瓷表面金屬化制品。普遍應用于工藝美術、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領域，JTPZ多功能鍍膜技術及設備，針對汽車、摩托車燈具而設計的，在一個真空室內完成蒸發鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜，這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應用于光學產品、磁記錄介質、國防保護膜；防潮增透膜；防銹抗腐蝕；耐磨增硬膜。用戶選擇在燈具基體上噴底漆、鍍鋁膜、鍍保護膜或燈具基體在真空室進行前處理、鍍鋁膜、鍍保護膜工藝。直流濺射方法用于被濺射材料為導電材料的濺射和反應濺射鍍膜中，其工藝設備簡單，有較高的濺射速率。
特殊濺射沉積技術：以上面幾種做基礎，為達到某些特殊目的而產生的濺射技術。1、反應濺射：可分為兩類，第一種情況是靶為純金屬、合金或混合物，通入的氣體是反應氣體，或Ar加上一部分反應氣體；第二種情況是靶為化合物，在純氬氣氣氛中濺射產生分解，使膜內缺少一種或多種靶成分，在濺射時需要補充反應氣體以補償損失的成分。常用的反應氣體有氧、氮、氧+氮、乙炔、甲烷等。1）反應過程，反應發生在表面--靶或基體上，活性氣體也可以形成活性基團，濺射原子與活性基團碰撞也會形成化合物沉積在基體上。當通入的反應氣體壓強很低，或靶的濺射產額很高時化合物的合成發生在基體上，而且化合物的成分取決于濺射粒子和反應氣體到達基體的相對速度，這種條件下，靶面的化學反應消失或者是化合物分解的速度遠大于合成的速度；當氣體壓強繼續升高，或濺射產額降低時化合反應達到某個域值，此后在靶上的化學合成速度大于逸出速度，認為化合物在靶面進行。磁控濺射發展至今，除了上述一般濺射方法的優點外，還實現了高速、低溫、低損傷。廣州直流磁控濺射用途
磁控濺射既降低濺射過程中的氣體壓力，也同時提高了濺射的效率和沉積速率。廣州反應磁控濺射過程
近年來磁控濺射技能發展十分迅速，代表性辦法有平衡平衡磁控濺射、反響磁控濺射、中頻磁控濺射及高能脈沖磁控濺射等等。放電發生的等離子體中，氬氣正離子在電場效果下向陰極移動，與靶材外表磕碰，受磕碰而從靶材外表濺射出的靶材原子稱為濺射原子。磁控濺射不只應用于科研及工業范疇，已延伸到許多日常生活用品，主要應用在化學氣相堆積制膜困難的薄膜制備。磁控濺射技能在制備電子封裝及光學薄膜方面已有多年，特別是先進的中頻非平衡磁控濺射技能也已在光學薄膜、通明導電玻璃等方面得到應用。廣州反應磁控濺射過程
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