一所高校的電子工程實驗室專注于新型傳感器的研究。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時,面臨著如何在微小尺寸上構建高精度電路圖案的難題。德國 Polos 光刻機的引入解決了這一困境。其可輕松輸入任意圖案進行曝光的特性,讓研究人員能夠根據傳感器的特殊需求,設計并制作出獨特的電路結構。通過 Polos 光刻機precise的光刻,成功制造出的壓力傳感器,靈敏度比現有市場產品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項patent,并吸引了多家科技企業(yè)的關注,有望實現產業(yè)化應用,為可穿戴設備、智能機器人等領域帶來新的發(fā)展機遇。6英寸晶圓兼容:Polos-BESM XL Mk2支持155×155 mm大尺寸加工,工業(yè)級重復精度0.1 m。陜西桌面無掩模光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

在航空航天科研中,某科研團隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器。其中,制造輕量化且高性能的微機械部件是關鍵。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術,助力團隊制造出尺寸precise、質量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結構。例如,利用該光刻機制造的微型齒輪,齒距精度達到納米級別,極大提高了飛行器動力傳輸系統的效率和穩(wěn)定性。基于此,科研團隊成功試飛了一款新型微型飛行器,其續(xù)航時間和飛行靈活性遠超同類產品,為未來微型飛行器在復雜環(huán)境下的應用奠定了堅實基礎。湖北德國BEAM光刻機光源波長405微米跨學科應用:覆蓋微機械、光子晶體、仿生傳感器與納米材料合成領域。

無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。
某分析化學實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)了集成電化學傳感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技術在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,傳感器的檢測限達 1nM,較傳統電化學工作站提升 100 倍。通過軟件輸入不同圖案,可在 24 小時內完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換。該芯片被用于即時檢測(POCT)設備,使現場水質監(jiān)測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘,相關設備已通過歐盟 CE 認證。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。無掩模技術優(yōu)勢:摒棄傳統掩模,圖案設計實時調整,研發(fā)成本直降 70%。

在tumor轉移機制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻機構建了仿生tumor微環(huán)境芯片。通過無掩模激光光刻技術,在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網絡與間質纖維化結構,其中血管直徑可精確控制在 10-50μm。實驗顯示,該芯片模擬的tumor微環(huán)境中,tumor細胞遷移速度較傳統二維培養(yǎng)提升 2.3 倍,且化療藥物滲透效率降低 40%,與臨床數據高度吻合。該團隊通過軟件實時調整通道曲率和細胞外基質密度,成功復現了tumor細胞上皮 - 間質轉化(EMT)過程,相關成果發(fā)表于《Cancer Research》,并被用于新型抗轉移藥物的篩選平臺開發(fā)。未來技術儲備:持續(xù)研發(fā)光束整形與多材料兼容工藝,lead微納制造前沿。北京PSP光刻機
Polos-BESM XL:130mm×130mm 曝光幅面,STL 模型直接導入,微流控芯片制備周期縮短 40%。陜西桌面無掩模光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米
某生物物理實驗室利用 Polos 光刻機開發(fā)了基于壓阻效應的細胞力傳感器。其激光直寫技術在硅基底上制造出 5μm 厚的懸臂梁結構,傳感器的力分辨率達 10pN,較傳統 AFM 提升 10 倍。通過在懸臂梁表面刻制 100nm 的微柱陣列,實現了單個心肌細胞收縮力的實時監(jiān)測,力信號信噪比提升 60%。該傳感器被用于心臟纖維化機制研究,成功捕捉到心肌細胞在病理狀態(tài)下的力學變化,相關數據為心肌修復藥物開發(fā)提供了關鍵依據。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。陜西桌面無掩模光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米