△S:相鄰兩次稱量的時間間隔(min);實際測定時,記錄一系列稱量和時間數據,用上式計算滲透率并求其平均值。或以稱量數據為縱坐標,時間為橫坐標,繪制滲透率的特性曲線,所得直線的斜率即為滲透率。(2)滲透管動態配氣裝置用已知滲透率的滲透管配制標準氣體的裝置如圖6所示。740)">將滲透管放在氣體發生瓶中,再將氣體發生瓶放入恒溫水浴中,恒溫水浴的溫度要與測定滲透率時的溫度相同(一般為25±1℃),這樣就可不作溫度校正。稀釋氣(壓縮空氣)經硅膠、活性炭和氫氧化鈉凈化器2除去水分和雜質后,再經流量控制閥和流量計3進入氣體發生瓶7(即混合器)中,將滲透出來的氣體分子帶出,就得到標準氣體。標準氣體的濃度可由下式求出(在25℃和一個大氣壓下)。740)">式中:z:所配標準氣體的濃度(ppm);G:滲透管的滲透率(Lg/min);M:液體的摩爾質量(g/mol);Q:稀釋氣體的流量(L/min);VM:配氣狀態下氣體的摩爾體積(L/mol)。四川二氧化氮標準氣體源頭廠家推薦四川僑源氣體股份有限公司。四川二氧化碳標準氣體批發廠家

    混合罐。標準氣體分壓法1、適用范圍分壓法適用于制備常溫下是氣體，含量在1~60%的標準混合氣體2、所需設備配氣設備：氣瓶匯流排，壓力表，閥門，真空泵，管道，氣瓶卡具。標準氣體擴散法1、適用范圍擴散法適用于制備常溫下是液體的有機氣體2、所需設備配氣設備：氣瓶，閥門，流量控制閥，流量計，液體組分，分析儀表氣瓶，卡具。標準氣體容積法1、適用范圍靜態容積法適用于實驗室制備多種小、少量的標準氣體，壓力接近大氣壓力。2、所需設備配氣設備：氣瓶，氣瓶減壓閥門，定體積管，壓力計，真空泵。標準氣體飽和法1、適用范圍飽和法法適用于易于冷凝的氣體和蒸汽。2、所需設備配氣設備：氣瓶，氣瓶減壓閥門，冷凝器，飽和器，恒溫控制器，壓力計，循環風機。標準氣體流量法1、適用范圍流量比法法是動態配氣方法，是嚴格控制一定比例的組分氣體和釋稀釋氣體的流量，經混合而得到的標準氣體。2、所需設備氣瓶，氣瓶減壓閥門，單向閥，流量控制器，壓力表，管道，機箱。標準氣體稀釋法1、適用范圍稀釋法法法是制備低含量標準氣體的方法之一。2、所需設備氣瓶，氣瓶減壓閥門，流量控制器，壓力表，管道。標準氣體體積法1、適用范圍體積比法是簡單的配氣方法。成都標準氣體廠家直銷甲烷標準氣體源頭廠家推薦四川僑源氣體股份有限公司。

    容器選擇盛裝標準氣體的容器應由耐腐蝕、抗壓、吸附少、不生銹、化學特性穩定、機械強度高的材料制成,通常使用的高壓容器是鋁合金瓶,而碳鋼瓶因其內壁不光滑、吸附大而被逐步淘汰。預處理盛裝標準氣體的鋼瓶使用前應進行表面清潔、涂漆處理,然后,將鋼瓶加溫至100℃左右,同時抽真空處理約4h。鋼瓶處理完畢后,必須分析其H2O、O2等雜質含量,合格后方可使用。氣體要求配制10%的CH4/Ar四瓶,進行為期一年的穩定性考察,見表1,實驗結果表明,由于鋁合金鋼瓶內壁比較光滑,因此在盛裝一般長久氣體時性質穩定,變化不大,鋼瓶不用特殊處理,即可滿足此類標準氣體穩定性的要求。在配制COS、H2S、SO2等氣體時,必須對鋼瓶進行KG或CM處理,即為了防止容器內壁因吸附或解吸等帶來的影響。先對容器內壁進行鏡面研磨,涂上防氧化漆,然后把高濃度氣體充入容器內并放置10d左右,從而提高標準氣體的穩定性。用未經KG或CM處理的鋼瓶配制mg/m3,COS/N2一瓶,實驗結果見圖1。用經KG處理的鋼瓶配制mg/m3COS/N2一瓶,實驗結果見圖2。以上實驗結果表明。配制易吸附標準氣體時,鋼瓶必須經KG或CM處理,才能保證其穩定性可靠,否則,組分氣的含量變化很大,不宜作為標準氣體來使用。

    CVD)的方法生長一層或多層材料所用氣體稱為外延氣體。硅外延氣體有4種,即硅烷、二氯二氫硅、三氯氫硅和四氯化硅,主要用于外延硅淀積,多晶硅淀積,淀積氧化硅膜,淀積氮化硅膜,太陽電池和其他光感受器的非晶硅膜淀積。外延生長是一種單晶材料淀積并生長在襯底表面上的過程。此外延層的電阻率往往與襯底不同。5.蝕刻氣體(Etchinggases)：蝕刻就是把基片上無光刻膠掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金屬膜等蝕刻掉,而使有光刻膠掩蔽的區域保存下來,這樣便在基片表面得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本要求是,圖形邊緣整齊,線條清晰,圖形變換差小,且對光刻膠膜及其掩蔽保護的表面無損傷和鉆蝕。蝕刻方式有濕法化學蝕刻和干法化學蝕刻。干法蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體,通常多為氟化物氣體,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蝕刻由于蝕刻方向性強、工藝控制精確、方便、無脫膠現象、無基片損傷和沾污,所以其應用范圍日益***。6.摻雜氣體(DopantGases)：在半導體器件和集成電路制造中,將某種或某些雜質摻入半導體材料內,以使材料具有所需要的導電類型和一定的電阻率,用來制造PN結、電阻、埋層等。摻雜工藝所用的氣體摻雜源被稱為摻雜氣體。福建便攜式氣體源頭廠家推薦四川僑源氣體股份有限公司。

    進行量值仲裁等。大型乙烯廠、合成氨廠及其它石化企業,在裝置開車、停車和正常生產過程中需要幾十種純氣和幾+百種多組分標準混合氣,用來校準、定標生產過程中使用的在線分析儀器和分析原料及產品質量的儀器。標準氣還可用于環境監測,**的有機物測量,汽車排放氣測試,天然氣BTU測量,液化石油氣校正標準,超臨界流體工藝等。標準氣視氣體組分數區分為二元、三元和多元標準氣體;配氣準度要求以配氣允差和分析允差來表征;比較通用的有SE2MI配氣允差標準,但各公司均有企業標準。組分的**低濃度為10-6級,組分數可多達20余種配制方法可采用重量法,然后用色譜分析校核,也可按標準傳遞程序進行傳遞。3、電子氣體(Electronicgases)：半導體工業用的氣體統稱電子氣體。按其門類可分為純氣、高純氣和半導體特殊材料氣體三大類。特殊材料氣體主要用于外延、摻雜和蝕刻工藝；高純氣體主要用作稀釋氣和運載氣。電子氣體是特種氣體的一個重要分支。電子氣體按純度等級和使用場合，可分為電子級、LSI(大規模集成電路)級、VLSI(超大規模集成電路)級和ULSI(特大規模集成電路)級。4.外延氣體(Cpita***algases)：在仔細選擇的襯底上采用化學氣相淀積。成都二氧化碳標準氣體源頭廠家推薦四川僑源氣體股份有限公司。重慶乙烷標準氣體供應商

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    L:鋼瓶標準氣的濃度(ppm);Qs:鋼瓶標準氣的流量(L?min);Qa:壓縮空氣的流量(L?min;用此法配氣時,在壓縮空氣的管路中應安裝選擇性過濾器(凈化器),以除去空氣中影響配氣純度的雜質。此外配氣出口的總流量應略大于用氣口的流量,以保證所配氣體的濃度與純度。2.滲透管動態配氣法(1)滲透管及滲透率的測定滲透管是動態配氣法中的另一種氣源,其結構見圖5。740)">在安培瓶1中裝入產生原料氣的液體(如汽油等),用不銹鋼加固環3將聚四氟乙烯塑料帽2和安培瓶1的頸部緊封牢固,塑料帽的上端是比較薄(壁厚在1毫米以下)的滲透面4。由于原料液體的揮發性,使安培瓶中有一定蒸氣壓,氣體分子在蒸氣壓力的作用下,通過滲透面向外滲透。單位時間的滲透量叫滲透率。在一定溫度下,滲透率的大小決定于滲透面的厚度和面積的大小等因素。滲透面越大,壁越薄,滲透率就越大。制作滲透管時,就是通過改變滲透面積和厚度的辦法,以獲得不同滲透率的滲透管。任何滲透管在使用前都必須知道其滲透率。滲透率的測定方法是:在一干燥瓶的底部裝入粒狀氫氧化鈉,上面蓋一層尼龍紗網,將滲透管放入干燥瓶中的紗網上。加蓋后,滲透出來的氣體(汽油蒸氣)就會被氫氧化鈉吸收。由于液體的蒸氣壓與溫度有關。四川二氧化碳標準氣體批發廠家