為提升芯片產出量，中清航科通過刀片動態平衡控制+激光輔助定位，將切割道寬度從50μm壓縮至15μm。導槽設計減少材料浪費，使12英寸晶圓有效芯片數增加18%，明顯降低單顆芯片制造成本。切割產生的亞微米級粉塵是電路短路的元兇。中清航科集成靜電吸附除塵裝置，在切割點10mm范圍內形成負壓場，配合離子風刀清理殘留顆粒，潔凈度達Class1標準（>0.3μm顆粒<1個/立方英尺）。中清航科設備內置AOI（自動光學檢測）模塊，采用多光譜成像技術實時識別崩邊、微裂紋等缺陷。AI算法在0.5秒內完成芯片級判定，不良品自動標記，避免后續封裝資源浪費，每年可為客戶節省品質成本超百萬。超窄街切割方案中清航科實現30μm道寬，芯片數量提升18%。鎮江砷化鎵晶圓切割企業

8英寸晶圓在功率半導體、MEMS等領域仍占據重要市場份額，中清航科針對這類成熟制程開發的切割設備，兼顧效率與性價比。設備采用雙主軸并行切割設計，每小時可加工40片8英寸晶圓，且通過優化機械結構降低振動噪聲至65分貝以下，為車間創造更友好的工作環境，深受中小半導體企業的青睞。晶圓切割工藝的數字化轉型是智能制造的重要組成部分。中清航科的切割設備內置工業物聯網模塊，可實時采集切割壓力、溫度、速度等100余項工藝參數，通過邊緣計算節點進行實時分析，生成工藝優化建議。客戶可通過云端平臺查看生產報表與趨勢分析，實現基于數據的精細化管理。碳化硅陶瓷晶圓切割劃片廠12英寸晶圓切割中清航科解決方案突破產能瓶頸，良率99.3%。

為滿足汽車電子追溯要求，中清航科在切割機集成區塊鏈模塊。每片晶圓生成單獨工藝參數數字指紋（含切割速度、溫度、振動數據），直通客戶MES系統，實現零缺陷溯源。面向下一代功率器件，中清航科開發等離子體輔助切割（PAC）。利用微波激發氧等離子體軟化切割區材料，同步機械分離，切割效率較傳統方案提升5倍，成本降低60%。邊緣失效區（EdgeExclusionZone）浪費高達3%晶圓面積。中清航科高精度邊緣定位系統通過AI識別有效電路邊界，定制化切除輪廓，使8英寸晶圓可用面積增加2.1%，年省材料成本數百萬。

對于高價值的晶圓產品，切割過程中的追溯性尤為重要。中清航科的切割設備內置二維碼追溯系統，每片晶圓進入設備后都會生成單獨的二維碼標識，全程記錄切割時間、操作人員、工藝參數、檢測結果等信息，可通過掃碼快速查詢全流程數據，為質量追溯與問題分析提供完整依據。在晶圓切割的邊緣處理方面，中清航科突破傳統工藝限制，開發出激光倒角技術。可在切割的同時完成晶圓邊緣的圓弧處理，倒角半徑可精確控制在5-50μm范圍內，有效減少邊緣應力集中，提高晶圓的機械強度。該技術特別適用于需要多次搬運與清洗的晶圓加工流程。晶圓切割應急服務中清航科24小時響應，備件儲備超2000種。

半導體晶圓是一種薄而平的半導體材料圓片，組成通常為硅，主要用于制造集成電路（IC）和其他電子器件的基板。晶圓是構建單個電子組件和電路的基礎，各種材料和圖案層在晶圓上逐層堆疊形成。由于優異的電子特性，硅成為了常用的半導體晶圓材料。根據摻雜物的添加，硅可以作為良好的絕緣體或導體。此外，硅的儲量也十分豐富，上述這些特性都使其成為半導體行業的成本效益選擇。其他材料如鍺、氮化鎵（GaN）、砷化鎵（GaAs）和碳化硅（SiC）也具有一定的適用場景，但它們的市場份額遠小于硅。切割粉塵回收模塊中清航科集成，重金屬污染減排90%以上。蘇州sic晶圓切割廠

MEMS器件晶圓切割中清航科特殊保護層技術，結構完整率99%。鎮江砷化鎵晶圓切割企業

針對高粘度晶圓切割液的回收處理，中清航科研發了離心式過濾凈化系統。該系統通過三級過濾工藝，可去除切割液中99.9%的固體顆粒雜質，使切割液循環利用率提升至80%以上，不只降低耗材成本，還減少廢液排放。同時配備濃度自動調節功能，確保切割液性能穩定，保障切割質量一致性。在晶圓切割設備的維護便捷性設計上，中清航科秉持“易維護”理念。設備關鍵部件采用模塊化設計，更換激光頭、切割刀片等中心組件只需15分鐘，較傳統設備縮短70%維護時間。同時配備維護指引系統，通過AR技術直觀展示維護步驟，降低對專業維護人員的依賴，減少客戶運維壓力。鎮江砷化鎵晶圓切割企業