晟鼎RPS遠程等離子體源產品特性：01.duli的原子發生器；02.電感耦合等離子體技術；03集成的電子控制及電源系統，實現了功率自適應調節；04內循環強制風冷散熱+水冷散熱，極大程度避免環境污染內部元器件；05.輸入電檢測，避免設備工作于異常交流輸入電壓；06.配置了模擬總線控制接口；07.先進的表面處理工藝保證了腔體長時間穩定的運行；08.簡化的工作模式方便了用戶的使用；06.氣體解離率高，效果可媲美進口設備。主動網絡匹配技術:可對不同氣體進行阻抗匹配，使得等離子腔室獲得大能量。用于氣體傳感器敏感薄膜的沉積后處理。安徽國內RPS哪家好

RPS遠程等離子源是一款基于電感耦合等離子體技術的自成一體的原子發生器，它的功能是用于半導體設備工藝腔體原子級別的清潔，使用工藝氣體三氟化氮（NF3）/O2，在交變電場和磁場作用下，原材料氣體會被解離，從而釋放出自由基，活性離子進入工藝室與工藝室上沉積的污染材料（SIO/SIN）或者殘余氣體（H2O、O2、H2、N2）等物質產生化學反應，聚合為高活性氣態分子經過真空泵組抽出處理腔室，提高處理腔室內部潔凈度；利用原子的高活性強氧化特性，達到清洗CVD或其他腔室后生產工藝的目的，為了避免不必要的污染和工作人員的強度和高風險的濕式清洗工作，提高生產效率。福建遠程等離子體源RPS原理為晶圓鍵合工藝提供超高潔凈度界面。

RPS遠程等離子源在航空航天領域的應用：航空航天組件常使用高溫合金或復合材料，其制造過程需要高精度清潔。RPS遠程等離子源能夠去除油脂、氧化物或其他污染物，確保涂層或粘接的可靠性。在渦輪葉片涂層沉積前，使用RPS遠程等離子源進行表面處理，可以提升涂層的附著力和耐久性。其低損傷特性保護了精密部件，避免了疲勞壽命的降低。隨著航空航天標準日益嚴格，RPS遠程等離子源成為確保組件性能的關鍵技術。金屬部件的腐蝕常始于表面污染物或缺陷。RPS遠程等離子源可用于清潔和活化金屬表面，提升防護涂層（如油漆或電鍍）的附著力。其均勻的處理確保了整個表面的一致性，避免了局部腐蝕。在汽車或海洋工程中，采用RPS遠程等離子源預處理部件，可以明顯 延長其使用壽命。此外，其環保過程減少了化學清洗劑的使用，降低了環境 impact。

三維NAND閃存堆疊層數的不斷增加，對刻蝕后高深寬比結構的清洗帶來了巨大挑戰。其深孔或深溝槽底部的刻蝕殘留物（如聚合物）若不能徹底清理 ，將嚴重影響后續多晶硅或鎢填充的質量，導致電荷陷阱和器件性能劣化。在此RPS遠程等離子源應用領域展現出其獨特優勢。由于等離子體在遠程生成，其主要產物是電中性的自由基，這些自由基具有較好的擴散能力，能夠無阻礙地深入深寬比超過60:1的結構底部，與殘留物發生化學反應并將其轉化為揮發性氣體排出。相較于直接等離子體，RPS技術避免了因離子鞘層效應導致的清洗不均勻問題，確保了從結構頂部到底部的均勻清潔，且不會因離子轟擊造成結構側壁的物理損傷。這使得RPS遠程等離子源應用領域成為3D NAND制造中實現高良率、高可靠性的主要 技術之一。在石墨烯器件制備中實現無損轉移。

遠程等離子體源（RPS）是一種用于產生等離子體的裝置，它通常被用于在真空環境中進行表面處理、材料改性、薄膜沉積等工藝。如在CVD等薄膜設備中，RPS與設備腔體連接，進行分子級的清洗。在晶圓制造過程中，即使微米級的灰塵也會造成晶體管污染，導致晶圓廢片，因此RPS的清潔性能尤為重要。RPS不僅避免了傳統等離子體源直接接觸處理表面可能帶來的熱和化學損傷，還因其高度的集成性和靈活性，成為現代真空處理系統中不可或缺的一部分。在聲學器件制造中提升諧振性能。山東國內RPS石墨舟腔體清洗

在存儲芯片制造中提升介質層可靠性。安徽國內RPS哪家好

RPS遠程等離子源在熱電材料制備中的創新應用在碲化鉍熱電材料圖案化中，RPS遠程等離子源通過Cl2/Ar遠程等離子體實現各向異性刻蝕，將側壁角度控制在88±1°。通過優化工藝參數，將材料ZT值提升至1.8，轉換效率達12%。在器件集成中，RPS遠程等離子源實現的界面熱阻<10mm2·K/W，使溫差發電功率密度達到1.2W/cm2。RPS遠程等離子源在超表面制造中的精密加工在光學超表面制造中，RPS遠程等離子源通過SF6/C4F8遠程等離子體刻蝕氮化硅納米柱，將尺寸偏差控制在±2nm以內。通過優化刻蝕選擇比，將深寬比提升至20:1，使超表面工作效率達到80%。實驗結果顯示，經RPS遠程等離子源加工的超透鏡，數值孔徑達0.9，衍射極限分辨率優于200nm。安徽國內RPS哪家好