RPS遠程等離子源是一款基于電感耦合等離子體技術的自成一體的原子發生器,它的功能是用于半導體設備工藝腔體原子級別的清潔,使用工藝氣體三氟化氮(NF3)/O2,在交變電場和磁場作用下,原材料氣體會被解離,從而釋放出自由基,活性離子進入工藝室與工藝室上沉積的污染材料(SIO/SIN)或者殘余氣體(H2O、O2、H2、N2)等物質產生化學反應,聚合為高活性氣態分子經過真空泵組抽出處理腔室,提高處理腔室內部潔凈度;利用原子的高活性強氧化特性,達到清洗CVD或其他腔室后生產工藝的目的,為了避免不必要的污染和工作人員的強度和高風險的濕式清洗工作,提高生產效率。高活性氣態分子經過真空泵組抽出處理腔室,提高處理腔室內部潔凈度。重慶遠程等離子源處理cvd腔室RPS生產廠家

RPS遠程等離子源(Remote Plasma Source)是一種先進的等離子體生成技術,其主要 在于將等離子體的生成區與反應區進行物理分離。這種設計通過電磁場激發工作氣體(如氧氣、氮氣或氬氣)產生高密度的等離子體,隨后利用氣流將活性自由基輸送到反應腔室中。由于等離子體生成過程遠離工件,RPS遠程等離子源能夠有效避免高能離子和電子對敏感器件的直接轟擊,從而明顯 降低損傷風險。在高級 制造領域,例如半導體晶圓清洗或薄膜沉積后的腔室維護,RPS遠程等離子源憑借其均勻的活性粒子分布和精確的工藝控制,成為提升良品率的關鍵工具。此外,該技術還支持多種氣體組合,適應復雜的工藝需求,幫助用戶實現高效、低污染的清潔和刻蝕應用。江蘇pecvd腔室遠程等離子源RPS石英舟腔體清洗為納米壓印模板提供深度清潔。

RPS遠程等離子源在超表面制造中的精密加工在光學超表面制造中,RPS遠程等離子源通過SF6/C4F8遠程等離子體刻蝕氮化硅納米柱,將尺寸偏差控制在±2nm以內。通過優化刻蝕選擇比,將深寬比提升至20:1,使超表面工作效率達到80%。實驗結果顯示,經RPS遠程等離子源加工的超透鏡,數值孔徑達0.9,衍射極限分辨率優于200nm。RPS遠程等離子源的技術演進與未來展望新一代RPS遠程等離子源集成AI智能控制系統,通過實時監測自由基濃度自動調節工藝參數。采用數字孿生技術,將工藝開發周期縮短50%。未來,RPS遠程等離子源將向更高精度(刻蝕均勻性>99%)、更低損傷(損傷層<1nm)方向發展,支持2nm以下制程和第三代半導體制造,為先進制造提供主要 工藝裝備。
RPS遠程等離子源應用領域在生物醫療器件,特別是微流控芯片、體外診斷(IVD)設備和植入式器械的制造中,扮演著表面功能化改性的重要角色。許多高分子聚合物(如PDMS、PC、COC)因其優異的生物相容性和易加工性被廣 使用,但其表面通常呈疏水性,不利于細胞粘附或液體流動。RPS遠程等離子源通過氧氣或空氣產生的氧自由基,能夠高效地在這些聚合物表面引入大量的極性含氧基團(如羥基、羧基),從而將其從疏水性長久性地改變為親水性。這種處理均勻、徹底,且不會像直接等離子體那樣因過熱和離子轟擊對精細的微流道結構造成損傷。經過RPS處理的微流控芯片,其親水通道可以實現無需泵驅動的毛細管液流,極大地簡化了設備結構,提升了檢測的可靠性和靈敏度。為晶圓鍵合工藝提供超高潔凈度界面。

隨著3D NAND堆疊層數突破500層,深孔刻蝕后的殘留物清洗成為技術瓶頸。RPS遠程等離子源利用其優異的自由基擴散能力,可有效清理 深寬比超過60:1結構底部的聚合物殘留。通過優化遠程等離子體參數,在保持刻蝕選擇比大于100:1的同時,將晶圓損傷深度控制在2nm以內。某存儲芯片制造商在引入RPS遠程等離子源后,將深孔清洗工序的良品率從87%提升至96%,單 wafer 處理成本降低30%。RPS遠程等離子源在化合物半導體工藝中的優勢在GaN、SiC等寬禁帶半導體制造中,RPS遠程等離子源展現出獨特價值。其低溫處理特性(<150℃)有效避免了化合物材料的熱分解風險。通過采用Cl2/BCl3混合氣體的遠程等離子體刻蝕,實現了GaN材料的各向異性刻蝕,側壁垂直度達89±1°。在HEMT器件制造中,RPS遠程等離子源將界面態密度控制在1010/cm2·eV量級,明顯 提升了器件跨導和截止頻率。在航空航天電子輻射加固工藝中提升器件可靠性。河南遠程等離子源處理cvd腔室RPS價格
RPS與材料和腔室表面發生反應,以去除污染物并充當有助于材料沉積的前提。重慶遠程等離子源處理cvd腔室RPS生產廠家
RPS遠程等離子源在高效清洗的同時,還具有明顯 的節能和環保特性。其設計優化了氣體利用率和功率消耗,通常比傳統等離子體系統能耗降低20%以上。此外,通過使用環保氣體(如氧氣或合成空氣),RPS遠程等離子源將污染物轉化為無害的揮發性化合物,減少了有害廢物的產生。在嚴格的環境法規下,這種技術幫助制造商實現可持續發展目標。例如,在半導體工廠,RPS遠程等離子源的低碳足跡和低化學品消耗,使其成為綠色制造的關鍵組成部分。重慶遠程等離子源處理cvd腔室RPS生產廠家