干涉顯微術圖7 光學金相顯微術示意如圖7。其特點是在顯微鏡光學系統中增加了特殊設計的光學裝置，使光線 通過時被分成兩束，一束光通過物鏡，在試樣上反射返回，重新穿過光束分離器進入目鏡；另一束光從一個比較板上反射進入目鏡。這兩束反射光在光束分離器上相遇時會發生干涉，利用所產生的干涉條紋的形狀，可以判斷輕微浮凸的空間形態，并可根據條紋位移量和相鄰條紋間距之比，定量給出浮凸高度。多光束干涉的發展，使干涉條紋更為窄銳，從而提高了測量高度差的靈敏度（見馬氏體相變中的圖3、圖6）。技術要求：由10倍物鏡轉換至其它放大率物鏡時均不越出視場。崇川區附近金相顯微鏡聯系方式

相襯顯微技術圖8 光學金相顯微術利用相位差信息（樣品表面由細微浮凸導致相位差），將反射光減弱到和衍射光 振幅相近，并改變反射光的相位，使其和衍射光同相或相差π。裝置是在普通顯微鏡的物鏡和目鏡之間的適當位置上放一個環形的相位差板，將反射光減弱并移相，再安放一個相應的環形光闌，就可以把表面細微高低不同引起的光學相差轉換為振幅差,提高各組織間的襯度（圖8）。近期發展的微差干涉技術，把相襯和顯微干涉技術結合起來，能把細微的浮凸表現為色彩對比，更有效地提供表面細微組織的信息。光學金相顯微術通州區銷售金相顯微鏡維修價格根據觀察試樣所需的放大倍數要求，正確選配物鏡和目鏡，分別安裝在物鏡座上和目鏡筒內。

暗場圖6 光學金相顯微術采用了從物鏡外斜射照明，使樣品的鏡面呈現暗的視野，使表面上的 微小浮凸的反射光產生足夠大的對比而被顯示出來。如浮凸顆粒是透明或半透明的，經內界面漫反射的光亦將進入物鏡。這對金屬和合金材料中的微缺陷和非金屬夾雜物的鑒定分析是很有用的。例如圖6表示利用奧氏體晶界腐刻后在內界面處形成溝壕使光產生漫反射，從而勾畫出晶粒的形狀。特殊分析方法光學金相顯微鏡除利用垂直反射光的振幅信息反射成像外；還可利用在特殊照明條件下產生的不同的光學信息來顯示樣品中的組織組成物，它們的發展為光學金相顯微術增添了一系列的特殊分析方法（圖3）。

物鏡轉換器定位誤差檢具：（1）10倍十字目鏡。（2）分劃值為0.01mm的分劃尺，其任意兩劃線間的極限偏差為±0.005mm。檢測方法：在被檢金相顯微鏡的轉換器上裝40倍物鏡，目鏡筒內放10倍十字目鏡，對置于載物臺上的0.01mm分劃尺調焦清晰，使分劃尺上某一分劃與目鏡中十字劃中心重合，然后轉動物鏡轉換器向左，右多次定位（不少于3 次），觀察0.01mm分劃尺像的偏移，以比較大偏移值作為檢測值。技術要求：不大于0.02 mm。換物鏡偏差檢具：（1）10倍十字分劃目鏡。（2）二字分劃板。不經常使用的光學部件放置于干燥皿內。

（2）由于載物臺自然下降或粗調的滑動使觀察中的焦點離開。3、雙目鏡筒 雙目鏡筒的視場不一致。以上問題很容易校正過來，基本準確可靠。1、條件許可情況下，建議試驗室應具備三防條件：防震、防潮、防塵；電源：220V±10%，50HZ；溫度：0°C—40°C。2、亮度調整切忌忽大忽小，也不要過亮，影響燈泡的使用壽命，同時也有損視力。3、所有（功能）切換，動作要輕，要到位。4、關機時要將亮度調到**小。5、調焦時注意不要使物鏡碰到試樣，以免劃傷物鏡。模塊化設計：系統組件采用模塊化設計，便于用戶根據實際需求進行選擇和配置。啟東便宜的金相顯微鏡聯系方式

.所有（功能）切換，動作要輕，要到位。崇川區附近金相顯微鏡聯系方式

金相樣品按所需的分析方法制備后即可進行分析觀察,常用的分析方法見圖5 ，可分為常規分析方法和特殊分析方法。常規分析方法由于樣品制備簡單，顯微鏡不需特殊的附件，操作簡便，是觀察和研究金屬微觀組織形貌的**常用方法；直接使用垂直反射光的振幅及波長信息，樣品經磨平、拋光、腐刻后即可置于顯微鏡下觀察分析，按照明方式有直射（即明場）和斜射（即暗場）兩種。明場照明光線直射到樣品上觀察,出由于樣品表面上不同晶粒或不同相之間化學性質的差異，在同一腐蝕介質中發生不均勻的溶解，造成反射本領的差別而顯示組織組成物。崇川區附近金相顯微鏡聯系方式

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