激光熔覆作為一種新型高效涂層制備工藝，以其凝固速率快，能夠獲得平衡狀態下無法獲得的優異組織等特點受到關注。它有利于目前納米陶瓷涂層制備中材料晶粒過度生長、致密度不高等問題的解決。★磁控濺射鍍膜通常利用氬氣電離產生的正離子轟擊固體（靶），濺出的中性原子沉積到基片（工件上），形成鍍膜。微弧氧化是在鋁鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，生長出以基體氧化物為主的陶瓷膜層。反應在常溫下進行，操作方面，易于掌握。金屬表面陶瓷涂層技術將基體金屬材料和陶瓷涂層的優點結合起來。納米陶瓷涂覆施工

等離子噴涂分為大氣等離子噴涂(APS)、超音速等離子噴涂(HVPS)、真空等離子噴涂(VPS)等。大氣等離子噴涂適應性很強，可通過控制工藝參數制備精細涂層，其主要缺陷是涂層與基體以機械結合為主，結合強度低，難以適應沖擊、高應力、強疲勞等工作條件。超音速等離子噴涂焰流速度快、溫度高，特別適用于噴涂陶瓷等高熔點材料。與其它技術相比，用等離子噴涂制備納米陶瓷涂層，工藝簡單、選材、沉積效率高等優點。近幾年廣泛應用的真空等離子噴涂制備的涂層更為致密，結合強度也更高。絕緣納米陶瓷涂覆廠家柔韌性較好、抗開裂、覆蓋細微裂紋，可延長墻體使用壽命。

由于納米陶瓷涂層晶粒的細化，晶粒分散均勻，晶界數量大幅度增加，顆粒平輔性明顯優于微米級顆粒，涂層組織更加致密。因此，與微米級陶瓷涂層相比，納米陶瓷涂層在強度、韌性、耐磨性、結合強度、抗蝕性、致密度等方面都會有顯著提高。由于納米陶瓷涂層在高溫熱障、耐磨損、自潤滑、耐腐蝕等功能方面的優勢，已在航空航天、機械、船舶、化工等工業領域得到較好應用。隨著納米技術的進一步發展，納米陶瓷涂層的種類會進一步豐富、性能會進一步提高，其應用也將越來越廣。

化學氣相沉積技術化學氣相沉積(CVD)是利用氣態物質在固體表面上進行化學反應生成固態沉積物的方法。實際上，它是在一定溫度條件下，混合氣體與基材表面相互作用，使混合氣體中某些成分分解，并在基材表面上形成金屬或化合物的固態膜或薄膜鍍層。近年來，等離子體輔助化學氣相沉積(PACVD)、電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積(ECR-PECVD)等技術相繼出現，并在納米涂層材料制備中得到廣泛應用。與物相沉積技術相比，化學氣相沉積技術具有工藝簡單、沉積速度快、涂層附著力強、過程連續且產品純度高的優點，適用于涂覆復雜工件。但CVD的反應溫度高，其應用受到了一定限制。硬度是納米陶瓷涂層重要指標之一。

單、雙層陶瓷復合隔膜是在傳統鋰離子電池隔膜的基礎上，主要以聚烯烴微孔膜、無紡布等為基膜，通過一定工藝涂覆陶瓷層制備的復合鋰離子電池隔膜。主要通過原子層沉積技術在基膜表面沉積了一層厚度約為6nm的超薄Al2O3功能層，制備了陶瓷復合隔膜。涂覆成膜工藝缺點是陶瓷層與基膜間的結合力較弱，易出現陶瓷層脫落現象。靜電紡絲靜電紡絲成膜工藝主要通過熱輥壓工藝制備具有三明治結構的復合陶瓷隔膜。該工藝優點是：陶瓷粉體顆粒層被限制在雙層聚丙烯腈無紡布之間，有效避免了粉體粒子的脫落，同時改善復合隔膜的熱穩定性和機械強度。陶瓷涂覆特種隔膜特別適用于動力電池。納米陶瓷涂覆施工

耐磨性是陶瓷涂層重要的應用性能之一。納米陶瓷涂覆施工

濕法雙向拉伸工藝是指原位復合隔膜中的陶瓷粒子被預先分散在成膜溶液中，通過雙向拉伸制備陶瓷復合隔膜。主要隔膜有聚苯醚（PPO）和SiO2復合隔膜。PPO/SiO2原位復合陶瓷隔膜的截面SEM照片該工藝優點是：隔膜中有機相牢牢包裹住納米陶瓷粉體粒子，有效地避免了單（雙）面復合、體相復合制備隔膜時出現的掉粉問題。模壓高溫燒結模壓、高溫燒結工藝主要用于制備全陶瓷隔膜，其成分不包括有機材料，全部為陶瓷粉體粒子。全陶瓷隔膜中主要采用的陶瓷粉體為高純Al2O3，其優點是耐低溫性優異，具有較好的開發應用前景。其它隔膜制備方式除上述介紹的陶瓷隔膜在改進電池的安全性方面突出外，隔膜的微孔關閉功能也是改進動力電池安全性的另一方法；凝膠類聚合物電解質具有較好的保液性，采用這種電解質的電池比常規液態電池具有更好的安全性。納米陶瓷涂覆施工