系統配有沖洗系統，減少了由于系統污染引起的計劃外停機維護時間。樣品預處理系統：正確設計和操作樣品調節系統是分析儀成功運行的關鍵。該系統基于現場經驗針對這種復雜的工藝樣品，專門為低維護操作而設計。低維護的固體顆粒分離器。不帶過濾元件可將顆粒去除達到2-3微米，減少了維護量。先進的安全系統，保護分析儀免受高壓影響和防止產品泄漏。簡單校準。標準的引入是一種手工操作，只需使用注射器即可，不需要定期重新校準，無樣本回收系統。馳光機電科技有限公司擁有先進的產品生產設備，雄厚的技術力量。遼寧納米粒度分析儀

磨料的粒度測量：以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關鍵性的作用，CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米，典型的過大聚集體為1-10微米，并出現在ppm范圍內。顆粒表征的挑戰來自于精確確定納米級顆粒尺寸，同時還識別出相對較少的微米級聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%，粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來。貴州粒度分析儀報價馳光機電科技有限公司歡迎朋友們指導和業務洽談。

氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大，透明度高，有優良的常溫發光性能，在半導體領域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發光二極管等產品中均有應用。氧化鋅粉末還用于制作口腔用品，如牙膏、牙凝膠、牙粉等。粒度仍然是評價氧化鋅粉末的重要指標！CPS納米粒度分析儀是您的較佳選擇！CPS納米粒度儀測得的氧化鋅粉末的粒徑分布結果，平均粒徑為0.541微米；儀器使用轉速為12,000轉/分。應用實例：病毒顆粒的粒徑分布及疫苗的研發，病毒顆粒的團聚和聚集對病毒解決的臨床安全性和療效有重要影響。

為了提高粒徑的測量精度，需要較高的圓盤轉速，目前市面上常見的運行速度較高在15000RPM，而國內在1500RPM，無法滿足CPM化學機械拋光的需求。CPS-24000納米粒度儀的最高轉速為24000轉，測試范圍在5nm-75um，每次加樣只需要0.1ml，降低樣液的測試成本，可連續測量多達40個樣品。CPS納米粒度分析儀的使用方法已經列入國標，包括《金屬粉末粒度分布的測量-重力沉淀光透法》、《煤礦粉塵粒度分布測定方法》、《橡膠配合劑-炭黑-聚集體尺寸的測定-使用光跟蹤盤式離心沉淀儀法》等。馳光機電科技以創百年企業、樹百年品牌為使命，傾力為客戶創造更大利益！

而化學機械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個關鍵制程，國內拋光所用關鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產生刮痕。CMP漿料的分散穩定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環節。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時間延長，它的粒度可能增大從而導致損害的產生。公司實力雄厚，產品質量可靠。遼寧高精度納米粒度分析儀哪家好

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被測物料不溶于水，就用自來水作為試劑，以節約成本；被測物料在水中懸浮，可用乙醇將粉末濕潤后放入樣品槽；超聲分散的時間為15-60秒，測試結果一直穩定，不可再變化，說明樣粉已被充分分散。有些試樣由于強度低，超聲分散太長，有可能產生粉碎，使測試結果越來越細。有些試樣不易分散，也可加長分散時間。激光粒度儀的相關知識點就先說到這里了，這款產品還有很多的常識等著各位來發現與了解，如果您還想要了解更多內容，還請先關注好我們，華致林小編會不定期在此跟大家分享更多的信息。遼寧納米粒度分析儀

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