維度光電聚焦激光領域應用，推出覆蓋千瓦高功率、微米小光斑及脈沖激光的光束質量測量解決方案。全系產品包含掃描狹縫式與相機式兩大技術平臺：狹縫式通過正交狹縫轉動輪實現 0.1μm 超高分辨率，可直接測量近 10W 激光，適用于半導體晶圓切割等亞微米級場景；相機式采用面陣傳感器實時捕獲光斑形態，支持皮秒級觸發同步，分析脈沖激光能量分布。技術突破包括：基于 ISO 11146 標準的 M2 因子算法，實現光束發散角、束腰位置等 18 項參數測量；AI 缺陷診斷系統自動識別光斑異常，率達 97.2%。在工業實戰中，狹縫式設備通過實時監測光斑橢圓率，幫助某汽車零部件廠商將激光切割合格率提升至 99.6%；科研場景下，相機式與 M2 模塊組合成功解析飛秒激光傳輸特性，相關成果發表于《Nature Photonics》。針對不同需求，維度光電提供 "檢測設備 + 自動化接口 + 云平臺" 工業方案及 "全功能主機 + 定制模塊" 科研方案，助力客戶縮短周期 40% 以上。未來將多模態融合設備與手持式分析儀，推動激光測量技術智能化升級。國產的 M2 因子測量模塊哪家強？近場光斑光斑分析儀作用

維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測量光束質量參數，為激光技術在多領域的高效應用提供支撐。工業加工中，其亞微米級光斑校準能力幫助優化切割、焊接與打標工藝，確保光束輪廓一致性，保障加工質量。醫療領域用于眼科準分子激光手術設備校準，實時監測光束能量分布，確保手術安全性。科研場景中支持皮秒級脈沖激光測量，為物理與材料提供高精度數據，推動新型激光器件。光通信領域可實現光纖端面光斑形態分析，保障光信號傳輸穩定性。農業與生命中，通過分析激光誘變育種光束參數，優化植物生長調控效率。全系產品覆蓋200-2600nm寬光譜，支持千萬級功率測量，結合M2因子測試模塊與AI分析軟件，為各行業提供從光斑形態到傳播特性的全鏈路檢測方案，助力客戶提升產品性能與生產效率。束腰半徑光斑分析儀廠家相機式光斑分析儀都有哪些廠家？

在激光應用領域，高功率光束檢測一直是個難題。傳統面陣傳感器十分靈敏，在每平方厘米約 10μW 的功率水平下就會飽和，常規激光器功率遠超此強度，不衰減光束不僅無法測量光斑信息，還可能損壞設備。維度光電為此推出 BeamHere 光斑分析儀系列及適配的高功率光束取樣系統。其掃描狹縫式光斑分析儀采用創新的狹縫物理衰減機制，可直接測量近 10W 的高功率激光，無需額外衰減片。在此基礎上，還推出單次取樣與雙次取樣兩款衰減配件，可組裝疊加形成多次取樣系統。與合適衰減片搭配，可測功率超 1000W。單次取樣配件型號 DL - LBA - 1，45° 傾斜設計，取樣率 4% - 5%，有 C 口安裝方式和鎖緊環結構，能測量任意角度入射激光；雙次取樣配件型號 DL - LBA - 2，內部緊湊安裝兩片取樣透鏡，取樣率 0.16% - 0.25%，可應對 400W 功率光束，多面體結構有多個支撐安裝孔位。組合安裝配件可進一步衰減更高功率激光，大衰減程度達 10??。而且其緊湊結構的取樣光程能滿足聚焦光斑測量需求，單次取樣 68mm，雙次取樣 53mm，為各類激光應用場景的檢測提供了方案。

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價比光束質量檢測解決方案，涵蓋掃描狹縫式、相機式及 M2 測試模塊三大產品線： 掃描狹縫式光斑分析儀采用國內的刀口 / 狹縫雙模式切換技術，支持 190-2700nm 寬光譜范圍，可測量 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率實現亞微米級光斑細節捕捉。創新狹縫物理衰減機制使其無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光，適用于激光加工等高能量場景。 相機式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段，支持 2D/3D 實時成像與動態分析，可測量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）。獨特的六濾光片轉輪設計實現功率范圍擴展，可拆卸結構支持科研成像功能拓展。 M2 測試模塊適配全系產品，通過 ISO 11146 標準算法測量光束傳播參數（M2 因子、發散角、束腰位置等），結合 BeamHere 軟件實現一鍵生成報告、多參數同步分析。系統以模塊化設計滿足光通信、醫療、工業等領域的光斑檢測需求，兼顧實驗室與產線在線監測場景。半導體行業激光光束質量檢測方案。

光斑分析儀通過光學傳感器將光斑能量分布轉化為電信號，結合算法分析實現光束質量評估。Dimension-Labs 產品采用雙技術路線：掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描，實現 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測量；相機式則利用面陣傳感器實時成像，支持 200-2600nm 全光譜覆蓋。全系標配 M2 因子測試模塊，結合 BeamHere 軟件，可自動計算發散角、橢圓率等參數，并生成符合 ISO 11146 標準的測試報告。 產品優勢： 滿足測試需求的全系列產品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。光束質量M2怎么測量？大靶面光斑分析儀軟件

光斑分析儀與M2測試模塊組合，實現對光束傳播方向的發散角、M2因子、聚焦直徑等測量。近場光斑光斑分析儀作用

相機式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態復雜度： 1. 光斑尺寸 相機式：受限于 sensor 尺寸（≤10mm），小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元）。 狹縫式：刀口模式可測小 2.5μm 光斑，適合亞微米級檢測。 2. 功率范圍 相機式： 6 片衰減片（BeamHere 標配），可測 1W，需控制功率 < 10μW/cm2。 狹縫式：狹縫物理衰減機制支持近 10W 直接測量，無需外置衰減片。 3. 脈沖激光 相機式：觸發模式同步捕獲完整單脈沖光斑，兼容性強。 狹縫式：需匹配掃描頻率與激光重頻，易丟失脈沖信息。 4. 光斑形態 相機式：面陣傳感器保留非高斯光束（如貝塞爾光束）及高階橫模細節。 狹縫式：狹縫累加導致復雜光斑失真，適合高斯或規則光斑。 選擇建議 狹縫式：亞微米光斑、高功率或高斯光斑檢測。 相機式：大光斑、脈沖激光或復雜非高斯光束分析。 維度光電 BeamHere 系列提供兩種技術方案，適配實驗室與工業場景的全場景需求。近場光斑光斑分析儀作用