可編程微流控芯片需要集成電路控制與流體通道，傳統工藝需多次掩模對準，良率only 30%。Polos 光刻機的多材料同步曝光技術，支持在同一塊基板上直接制備金屬電極與 PDMS 通道，將良率提升至 85%。某微系統實驗室利用該特性，開發出可實時切換流路的生化分析芯片，通過軟件輸入不同圖案，10 分鐘內即可完成從 DNA 擴增到蛋白質檢測的模塊切換。該成果應用于 POCT 設備，使現場快速檢測系統的體積縮小 60%，檢測時間縮短至傳統方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。6英寸晶圓兼容：Polos-BESM XL Mk2支持155×155 mm大尺寸加工，工業級重復精度0.1 μm。湖北德國POLOS桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

Beam系列：緊湊型無掩模解決方案，PolosBeam系列以“桌面級尺寸，工業級性能”著稱，其中Beam-6型號支持5英寸晶圓加工，曝光面積較基礎款提升25%。其core優勢在于可快速更換的光束引擎，采用壓電驅動掃描技術，單次寫入400μm區域，配合閉環對焦系統，1秒內即可完成precise對焦。該系列設備重量only260kg，占地面積不足0.4㎡，讓中小型企業無需改造廠房即可引入微納加工能力。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。天津德國POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸無掩模激光直寫技術：無需物理掩膜，軟件直接輸入任意圖案，降低成本與時間。

材料科學：功能材料的可控組裝，在功能材料領域，Polos光刻機為精確組裝提供了技術保障。上海某化學研究所借助其光刻技術，成功制備多組分納米纖維，實現了新能源器件的結構化設計。設備可在柔性基底上加工導電圖案，為柔性電池、智能穿戴設備的研發奠定基礎。其0.1μm的高重復性，確保了功能材料批量制備的一致性，加速科研成果向產業化轉化。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?

在航空航天科研中，某科研團隊致力于研發用于環境監測和偵察的微型飛行器。其中，制造輕量化且高性能的微機械部件是關鍵。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術，助力團隊制造出尺寸precise、質量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結構。例如，利用該光刻機制造的微型齒輪，齒距精度達到納米級別，極大提高了飛行器動力傳輸系統的效率和穩定性。基于此，科研團隊成功試飛了一款新型微型飛行器，其續航時間和飛行靈活性遠超同類產品，為未來微型飛行器在復雜環境下的應用奠定了堅實基礎。能源收集：微型壓電收集器效率 35%，低頻振動發電支持無源物聯網。

在構建肝臟芯片的血管化網絡時，某生物工程團隊使用 Polos 光刻機實現了跨尺度結構制備。其無掩模技術在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接，血管內皮細胞貼壁率達 95%，較傳統光刻提升 30%。通過輸入 CT 掃描的真實肝臟血管數據，芯片成功模擬門靜脈與肝竇的血流梯度，使肝細胞功能維持時間從 7 天延長至 21 天。該技術為藥物肝毒性測試提供了接近體內環境的模型，某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%，相關成果登上《Lab on a Chip》封面。Polos-BESM 光刻機：無掩模激光技術，成本降低 50%，任意圖案輕松輸入，適配實驗室微納加工。天津德國POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

光束引擎高速掃描：SPS POLOS μ單次寫入400 μm區域，壓電驅動提升掃描速度。湖北德國POLOS桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

航空航天：微型傳感器的可靠加工，航空航天領域對器件小型化與可靠性的高要求，使Polos設備成為理想選擇。其加工的微型壓力傳感器，通過0.8μm精度的應變片圖案設計，實現了0.01kPa的測量精度，且能耐受-50℃至150℃的極端溫度。在衛星載荷研發中，科研人員利用Beam系列設備制作的微型天線，體積較傳統產品縮小70%，信號接收靈敏度卻提升25%，充分適配航天器的輕量化需求。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?湖北德國POLOS桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長