某智能機器人實驗室采用 Polos 光刻機制造了磁控微納機器人。其激光直寫技術(shù)在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu)，機器人在旋轉(zhuǎn)磁場下的推進速度達 50μm/s，轉(zhuǎn)向精度小于 5°。通過自定義三維運動軌跡，該機器人在微流控芯片中成功實現(xiàn)了單個紅細胞的捕獲與轉(zhuǎn)運，操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設(shè)計（質(zhì)量 < 1μg）還支持在活細胞表面進行納米級手術(shù)，相關(guān)成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術(shù)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。Polos-μPrinter 入選《半導(dǎo)體技術(shù)》年度創(chuàng)新產(chǎn)品，推動無掩模光刻技術(shù)普及。湖北POLOSBEAM-XL光刻機光源波長405微米

NanoWriterNW-100：入門級高精度加工利器，NanoWriterNW-100作為Polos的經(jīng)典型號，以0.8-2.5μm可調(diào)分辨率重塑入門級設(shè)備標準。搭載405nm或375nm激光光源，支持4095級灰度模式與2.5D結(jié)構(gòu)制作，可在硅、玻璃等多種基材上實現(xiàn)精細圖案曝光。其110×110mm加工幅面適配4英寸以內(nèi)晶圓，配合實時激光控制與自動對焦功能，1秒即可完成對焦，特別適合高校實驗室的微結(jié)構(gòu)研發(fā)，將傳統(tǒng)數(shù)小時的掩模制備流程縮短至分鐘級。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應(yīng)用于微電子、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，為科研機構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價比微納加工解決方案，推動技術(shù)普惠。陜西BEAM-XL光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸高頻元件驗證：成功開發(fā)射頻器件與IDC電容器，加速國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破。

Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設(shè)計，寫入?yún)^(qū)域達155×155 mm，平臺雙向重復(fù)性精度0.1 μm，滿足工業(yè)級需求。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭，支持實時觀測與多層對準。配套的BEAM Xplorer軟件簡化了復(fù)雜圖案設(shè)計流程，內(nèi)置高性能筆記本電腦實現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理，成為微機電系統(tǒng)（MEMS）和光子晶體研究的理想工具。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。

微納衛(wèi)星對部件重量與精度要求苛刻，傳統(tǒng)加工難以兼顧。Polos 光刻機在硅基材料上實現(xiàn)了 50nm 深度的微溝槽加工，為某航天團隊制造出輕量化星載慣性導(dǎo)航陀螺結(jié)構(gòu)。通過自定義螺旋型振動梁圖案，陀螺的零偏穩(wěn)定性提升至 0.01°/h，較商用產(chǎn)品性能翻倍。該技術(shù)還被用于微推進器噴嘴陣列加工，使衛(wèi)星姿態(tài)調(diào)整精度達到亞毫牛級，助力我國低軌衛(wèi)星星座建設(shè)取得關(guān)鍵突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會?？蒲谐晒D(zhuǎn)化：中科院利用同類技術(shù)制備跨尺度微盤陣列，研究細胞浸潤機制。

一家專注于再生醫(yī)學的科研公司在組織工程支架的研究上，使用德國 Polos 光刻機取得remarkable成果。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu)，以促進細胞的生長和組織的修復(fù)。Polos 光刻機能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計的三維模型，在生物可降解材料上精確制造出復(fù)雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案。通過該光刻機制造的支架，在動物實驗中表現(xiàn)出優(yōu)異的細胞黏附和組織生長引導(dǎo)能力。與傳統(tǒng)制造方法相比，使用 Polos 光刻機生產(chǎn)的支架，細胞在其上的增殖速度提高了 50%，為組織工程和再生醫(yī)學的臨床應(yīng)用提供了有力支持。德國工藝：精密制造基因，10 年以上使用壽命，維護成本低，設(shè)備殘值率達 60%。吉林德國POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

德國 SPS Polos：深耕微納加工 35 年，專注半導(dǎo)體與生命科學領(lǐng)域，全球布局 6 大技術(shù)中心，服務(wù) 500 + 科研機構(gòu)。湖北POLOSBEAM-XL光刻機光源波長405微米

無掩模技術(shù)：成本與效率的雙重revolution，Poloscore的無掩模光刻技術(shù)，徹底摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且耗時的硬掩模制備環(huán)節(jié)。通過激光直寫將設(shè)計直接投射到光敏層，不only節(jié)省了每套數(shù)萬元的掩模成本，更將圖案迭代周期從數(shù)周縮短至數(shù)小時。在芯片研發(fā)中，這一技術(shù)使科研團隊可快速測試不同電路布局，將新品研發(fā)周期平均縮短60%；在小批量生產(chǎn)中，則避免了掩模庫存壓力，適配個性化定制需求。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應(yīng)用于微電子、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，為科研機構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價比微納加工解決方案，推動技術(shù)普惠。?湖北POLOSBEAM-XL光刻機光源波長405微米