德國Polos-BESM系列光刻機采用無掩模激光直寫技術，突破傳統光刻對物理掩膜的依賴，支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進行快速曝光。其亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）和405 nm紫外光源，可在5英寸晶圓上實現高精度微納結構加工18。系統體積緊湊，only占桌面空間，搭配閉環自動對焦（1秒完成）和半自動多層對準功能，大幅提升實驗室原型開發效率，適用于微流體芯片設計、電子元件制造等領域。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協的情況下，將該技術帶到了桌面上，進一步提升了其優勢。POLOS μ 光刻機：微型化機身，納米級曝光精度，微流體芯片制備周期縮短 40%。河南BEAM-XL光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

在微流控芯片集成領域，某微機電系統實驗室利用 Polos 光刻機的多材料同步曝光技術，在同一塊 PDMS 芯片上直接制備出金屬電極驅動的氣動泵閥結構。其微泵通道寬度可控制在 20μm，流量調節精度達 ±1%，響應時間小于 50ms。通過軟件輸入不同圖案，可在 10 分鐘內完成從連續流到脈沖流的模式切換。該芯片被用于單細胞代謝分析，實現了單個tumor細胞葡萄糖攝取率的實時監測，檢測靈敏度較傳統方法提升 3 倍，相關設備已進入臨床前驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。四川德國PSP-POLOS光刻機光源波長405微米柔性電子制造：可制備叉指電容器與高頻電路，推動5G通信與物聯網硬件發展。

BeamXL：中尺寸器件的加工升級，BeamXL型號針對中尺寸器件需求升級，將加工幅面擴大至更大規格，支持一次性成型中等尺寸微結構，無需多次拼接。其保留了Beam系列的core優勢，分辨率仍可達0.8μm，同時提升了掃描速度與激光功率穩定性。在太陽能電池柵線加工中，該設備可一次性完成5英寸基板的精細柵線刻制，使電池轉換效率提升3%，為光伏領域的小批量研發提供高效解決方案。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?

某材料科學研究中心在探索新型納米復合材料的性能時，需要在材料表面構建特殊的納米圖案。德國 Polos 光刻機成為實現這一目標的得力工具。研究人員利用其無掩模激光光刻技術，在不同的納米材料表面制作出各種周期性和非周期性的圖案結構。經過測試發現，帶有特定圖案的納米復合材料，其電學、光學和力學性能發生了remarkable改變。例如，一種原本光學性能普通的納米材料，在經過 Polos 光刻機處理后，對特定波長光的吸收率提高了 30%，為開發新型光電器件和光學傳感器提供了新的材料選擇和設計思路 。光束引擎高速掃描：SPS POLOS μ單次寫入400 μm區域，壓電驅動提升掃描速度。

對于納 / 微機械系統的研究與制造，德國 Polos 光刻機系列展現出強大實力。無掩模激光光刻技術賦予它高度的靈活性，科研人員能夠快速將創新設計轉化為實際器件。在制造微型齒輪、納米級懸臂梁等微機械結構時，Polos 光刻機可precise控制激光，確保每個部件的尺寸和形狀都符合設計要求。? 借助該光刻機，科研團隊成功研發出新型微機械傳感器，其靈敏度和響應速度遠超傳統產品。并且，由于系統占用空間小，即使是小型實驗室也能輕松引入。Polos 光刻機以其低成本、高效率的特性，成為納 / 微機械系統領域的制造先鋒，助力科研人員不斷探索微納世界的奧秘。Polos-BESM XL：大尺寸加工空間，保留緊湊設計，科研級精度實現復雜結構一次性成型。河南德國POLOS桌面無掩模光刻機光源波長405微米

環保低能耗設計：固態光源能耗較傳統設備降低30%，符合綠色實驗室標準。河南BEAM-XL光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

航空航天：微型傳感器的可靠加工，航空航天領域對器件小型化與可靠性的高要求，使Polos設備成為理想選擇。其加工的微型壓力傳感器，通過0.8μm精度的應變片圖案設計，實現了0.01kPa的測量精度，且能耐受-50℃至150℃的極端溫度。在衛星載荷研發中，科研人員利用Beam系列設備制作的微型天線，體積較傳統產品縮小70%，信號接收靈敏度卻提升25%，充分適配航天器的輕量化需求。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術與緊湊設計，產品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫學等領域，為科研機構與中小企業提供高性價比微納加工解決方案，推動技術普惠。?河南BEAM-XL光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米