上海有機化學研究所通過光刻技術(shù)制備多組分納米纖維，實現(xiàn)了功能材料的精確組裝。類似地，Polos系列設(shè)備可支持此類結(jié)構(gòu)的可控加工，為新能源器件（如柔性電池）和智能材料提供技術(shù)基礎(chǔ)3。設(shè)備的高重復性（0.1 μm）確保了科研成果的可轉(zhuǎn)化性。掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。高頻元件驗證：成功開發(fā)射頻器件與IDC電容器，加速國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破。湖北德國BEAM光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

Polos光刻機在微機械加工中表現(xiàn)outstanding。其亞微米分辨率可制造80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā)。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)（如Nanoscribe系統(tǒng)），用戶還能擴展至3D微納結(jié)構(gòu)打印，為微型機器人及光學元件提供多尺度制造方案。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。黑龍江BEAM-XL光刻機可以自動聚焦波長緊湊桌面設(shè)計：Polos-BESM系統(tǒng)only占桌面空間，適合實驗室高效原型開發(fā)。

Polos光刻機與德國Lab14集團、弗勞恩霍夫研究所等機構(gòu)合作，推動光子集成與半導體封裝技術(shù)發(fā)展。例如，Quantum X align系統(tǒng)的高對準精度（100 nm）為光通信芯片提供可靠解決方案，彰顯德國精密制造與全球產(chǎn)業(yè)鏈整合的優(yōu)勢。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

微流體芯片：器官芯片的血管建模，Polos光刻機在微流體領(lǐng)域的應用極具突破性，支持1-100μm微通道的定制化加工，可precise復刻人體血管的分支結(jié)構(gòu)。某團隊利用POLOSμ制作的肝芯片微通道網(wǎng)絡，成功模擬了血液灌注過程，使肝細胞存活率提升至85%。設(shè)備兼容PDMS等軟材料的特性，還可實現(xiàn)微閥、微泵等功能單元的一體化制作，推動器官芯片從實驗室走向臨床應用。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，為科研機構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價比微納加工解決方案，推動技術(shù)普惠。?全球產(chǎn)業(yè)鏈整合：德國精密制造背書，與Lab14集團共推光通信芯片封裝技術(shù)。

教育領(lǐng)域：微納科學的教學利器，Polos設(shè)備因其操作簡便、安全穩(wěn)定的特點，成為高校微納科學教學的preferred工具。在荷蘭代爾夫特理工大學的課堂上，學生利用POLOSμ完成微電極圖案制作實驗，將抽象的光刻原理轉(zhuǎn)化為直觀實踐。設(shè)備的緊湊設(shè)計與低能耗特性，也適配了高校實驗室的空間與預算限制，通過“理論+實操”的模式，為培養(yǎng)微納加工領(lǐng)域人才提供了硬件支撐。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，為科研機構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價比微納加工解決方案，推動技術(shù)普惠。?6英寸晶圓兼容：Polos-BESM XL Mk2支持155×155 mm大尺寸加工，工業(yè)級重復精度0.1 μm。河南德國桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

多材料兼容性：同步加工陶瓷 / PDMS / 金屬，微流控芯片集成電極與通道一步成型。湖北德國BEAM光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

生物醫(yī)學：神經(jīng)工程的微觀助力，在神經(jīng)工程研究中，Polos光刻機實現(xiàn)了電極結(jié)構(gòu)的精密加工突破。某團隊通過其在鉑銥合金電極表面刻制10μm間距的蜂窩狀微孔，使神經(jīng)元突觸密度提升20%，信號采集噪聲降低35%。其兼容生物相容性材料的特性，還可用于微流控芯片的細胞培養(yǎng)腔道制作，為腦機接口、神經(jīng)信號監(jiān)測等前沿領(lǐng)域提供微觀結(jié)構(gòu)支撐。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應用于微電子、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，為科研機構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價比微納加工解決方案，推動技術(shù)普惠。?湖北德國BEAM光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模