下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的用途和設(shè)計(jì)。一、產(chǎn)品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達(dá)到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的。二、設(shè)計(jì)特點(diǎn)1.后門設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)2.降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開啟，同時(shí)兩端降溫封頭開啟，爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3.通過氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn)行熱交換，達(dá)到快速降溫的目的合肥真萍科技試驗(yàn)箱誠信經(jīng)營。銷售試驗(yàn)箱安裝公司

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超高真空烘箱被廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位，以確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術(shù)指標(biāo)。1.工作室溫度范圍：常溫～+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動(dòng)度：±1.0℃（空載）；3.溫度偏差：常壓溫度試驗(yàn)：常溫～200℃時(shí)±2℃200～300℃時(shí)±5.0℃低氣壓高溫綜合試驗(yàn):≤100℃時(shí)±2.0℃，100℃～200℃時(shí)±5.0℃200℃～300℃時(shí)±7.0℃

真萍科技作為冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造廠商，在冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造領(lǐng)域的專業(yè)性是不用多說的。下面讓真萍科技從溫度方面，帶您了解冷熱沖擊試驗(yàn)箱。一、溫度波動(dòng)度這個(gè)指標(biāo)也有叫溫度穩(wěn)定度，控制溫度穩(wěn)定后，在給定任意時(shí)間間隔內(nèi)，工作空間內(nèi)任一點(diǎn)的較高和較低溫度之差。這里有個(gè)小小的區(qū)別“工作空間”并不是“工作室”，是大約工作室去掉離箱壁各自邊長的1/10的一個(gè)空間。這個(gè)指標(biāo)考核產(chǎn)品的控制技術(shù)。二、溫度范圍指產(chǎn)品工作室能耐受和(或)能達(dá)到的極限溫度。通常含有能控制恒定的概念，應(yīng)該是可以相對長時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行的極值。一般溫度范圍包括極限高溫和極限低溫。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤1℃或±0.5℃。試驗(yàn)箱的發(fā)展前景如何？

超高真空烘箱廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術(shù)指標(biāo)。1.工作室溫度范圍：常溫～+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動(dòng)度：1.0℃（空載）；3.溫度偏差：常壓溫度試驗(yàn)：常溫～200℃時(shí)2℃200～300℃時(shí)5.0℃低氣壓高溫綜合試驗(yàn):≤100℃時(shí)2.0℃，100℃～200℃時(shí)5.0℃200℃～300℃時(shí)7.0℃真萍科技為您提供定制各種尺寸試驗(yàn)箱。常州做試驗(yàn)箱

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