相機式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態復雜度： 1. 光斑尺寸 相機式：受限于 sensor 尺寸（≤10mm），小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元）。 狹縫式：刀口模式可測小 2.5μm 光斑，適合亞微米級檢測。 2. 功率范圍 相機式： 6 片衰減片（BeamHere 標配），可測 1W，需控制功率 < 10μW/cm2。 狹縫式：狹縫物理衰減機制支持近 10W 直接測量，無需外置衰減片。 3. 脈沖激光 相機式：觸發模式同步捕獲完整單脈沖光斑，兼容性強。 狹縫式：需匹配掃描頻率與激光重頻，易丟失脈沖信息。 4. 光斑形態 相機式：面陣傳感器保留非高斯光束（如貝塞爾光束）及高階橫模細節。 狹縫式：狹縫累加導致復雜光斑失真，適合高斯或規則光斑。 選擇建議 狹縫式：亞微米光斑、高功率或高斯光斑檢測。 相機式：大光斑、脈沖激光或復雜非高斯光束分析。 維度光電 BeamHere 系列提供兩種技術方案，適配實驗室與工業場景的全場景需求。工業光斑檢測儀如何選？維度光電；大靶面光斑分析儀價格

Dimension-Labs 推出的相機式光斑分析儀系列包含兩個型號，覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍，實現可見光與近紅外波段光斑的實時顯示與分析。其優勢如下： 寬光譜覆蓋與動態分析 單臺設備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求，支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態分析。高幀率連續測量模式下，可實時捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖，為光學系統調試、動態測試及時間監控提供直觀數據支持。 復雜光斑適應性 基于面陣傳感器的成像原理，可測量非高斯分布光束（如平頂、貝塞爾光束）及含高階橫模的復雜光斑，突破傳統掃描式設備的局限性。 功率調節系統 標配 6 片不同衰減率的濾光片，通過獨特的轉輪結構實現功率范圍擴展，可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設計簡化操作流程，兼顧寬量程與高精度需求。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設計，光斑分析相機與濾光片轉輪可分離使用。拆卸后的相機兼容通用驅動軟件，支持科研成像、光譜分析等擴展應用，實現工業檢測與實驗室的一機多用。激光器光斑分析儀怎么收費光斑的形狀和強度測量。

選擇適合特定應用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應用場景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級光斑（如半導體加工）優先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級光斑（如激光焊接）推薦相機式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級：高功率激光（如工業切割）應選狹縫式（直接測量近 10W），微瓦級弱光（如科研實驗）可采用相機式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態：高斯或規則光斑兩者均可（狹縫式更經濟），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機式保留細節。 脈沖特性：單脈沖分析選相機式（觸發同步），連續或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業制造：高功率加工（>1W）選狹縫式，動態監測與大光斑校準選相機式，組合方案可覆蓋全流程需求。 醫療設備：眼科準分子激光需相機式實時監測能量分布，脈沖激光適配觸發模式，確保手術精度。 ：超短脈沖測量、復雜光束分析（如 M2 因子）依賴相機式，材料加工優化可結合狹縫式高精度掃描。 光通信：光纖端面檢測選相機式分析光斑形態，激光器表征適配狹縫式高靈敏度測量。

Dimension-Labs 維度光電相機式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率等級、脈沖特性及形態復雜度。相機式基于面陣傳感器成像，可測大10mm 光斑（受限于 sensor 尺寸），小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元），結合 6 片衰減片（BeamHere 標配）實現 1W 功率測量，適合大光斑、脈沖激光（觸發模式同步捕獲單脈沖）及非高斯光束（如貝塞爾光束）檢測，通過面陣實時反饋保留復雜形態細節。狹縫式采用正交狹縫掃描，刀口模式可測小 2.5μm 光斑，創新狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 高功率激光，適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測，但需嚴格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失，且復雜光斑會因狹縫累加導致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術方案，用戶可根據光斑尺寸（亞微米選狹縫，大光斑選相機）、功率等級（高功率選狹縫，微瓦級選相機）及光斑類型（復雜形態選相機，高斯光斑選狹縫）靈活選擇，實現光斑檢測全場景覆蓋。光斑分析儀應該怎么選？

維度光電作為全球激光測量領域解決商，致力于打造 "三橫三縱" 產品矩陣： 橫向覆蓋： 光譜范圍：190-2700nm 全波段 光斑尺寸：0.1μm-10mm 全尺寸 功率等級：1μW-10W 全功率 縱向深度： 工業級：支持產線在線監測與自動化對接 醫療級：符合 ISO 13485 認證，保障臨床精度 科研級：開放 API 接口支持自定義算法 差異化優勢： 同時提供雙技術方案的廠商（狹縫式 + 相機式） AI 算法庫支持光束質量預測性維護 模塊化設計實現設備功能動態擴展 適合各類激光應用中激光光束質量測量與分析。M2因子測量模塊，兼顧光斑與光束質量一站式測試。多光斑光斑分析儀性能

光斑分析儀培訓服務？維度光電提供線上 + 線下技術培訓，包教包會。大靶面光斑分析儀價格

Dimension-Labs 推出 Beamhere 光束質量分析系統，針對激光加工、醫療設備等領域的光束質量評估需求。該系列產品通過多維度檢測模塊，可對光束能量分布進行實時可視化分析，同步獲取發散角、M2 因子等參數。支持光束整形效果驗證、聚焦光斑優化及準直系統校準三大典型應用場景，所有測試結果均符合 ISO11146 標準。可選配的 M2 測試模塊可實現光束傳播特性的全程分析，終由軟件自動生成量化評估報告。 產品優勢： 滿足測試需求的全系列產品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。大靶面光斑分析儀價格