唯恒塬環保科技（蘇州）有限公司2025-12-10

碳氫真空清洗機進行精密清洗（如半導體、光學零件）的特殊要求：1. 選用超高純度碳氫溶劑（雜質含量 < 0.01%），避免污染零件；2. 真空度需達到 0.02-0.03MPa 壓力，增強溶劑滲透；3. 多槽清洗 + 多次漂洗（至少 3 次），確保潔凈度；4. 過濾精度≤0.5μm，去除亞微米級顆粒；5. 干燥采用高真空 + 低溫（40-50℃），避免零件損傷；6. 設備內部和清洗環境需達到 Class 1000 潔凈度；7. 溶劑需經超凈過濾和蒸餾，避免二次污染，滿足精密行業對微粒和污染物的嚴苛要求。

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