中國電子工程用高純硅烷行業投資現狀與前景戰略分析報告2023-2028年
【報告編號】: 389749
【出版時間】: 2023年2月
【出版機構】: 中研智業研究院
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第一章 半導體、光伏產業用高純硅烷概述 16
1.1 高純硅烷簡介 16
1.2 高純硅烷的主要基本性能與質量指標 17
1.3 高純硅烷的主要應用領域 18
1.4 高純硅烷在發展我國電子工業中的重要作用 19
第二章 電子特種氣體及其應用市場 20
2.1 電子特種氣體概述 20
2.2 電子特種氣體制造中的主要技術方面 21
2.3 電子特種氣體的純凈度要求 23
2.4 電子特種氣體產品市場競爭的焦點問題 25
2.4.1 對電子特種氣體雜質、純度要求的問題 25
2.4.2 氣體配送及供應問題 26
2.4.3 儲存、使用中的安全性問題 27
2.4.4 成本性問題 28
2.5 國內外電子特種氣體行業發展概述 29
2.5.1 境外電子特種氣體生產與市場情況 29
2.5.2 國內電子特種氣體行業及其發展 30
第三章 高純硅烷氣體性能指標及制備、凈化的工藝路線 33
3.1 高純硅烷的性能指標 33
3.2 高純硅烷工業化制備的典型工藝路線 34
3.2.1 制備工藝法概述 34
3.2.2 硅化鎂合金法制備硅烷 34
3.2.2.1 工藝過程 34
3.2.2.2 主要反應 36
3.2.2.3 工藝特點 36
3.2.2.4 工藝法存在的問題 37
3.2.3 三氯氫硅還原法制備硅烷 37
3.2.3.1 工藝過程 37
3.2.3.2 主要反應 39
3.2.3.3 工藝特點 39
3.2.3.4 工藝法存在的問題 40
3.2.4 四氟化硅還原法制備硅烷 41
3.2.4.1 工藝過程 41
3.2.4.2 主要反應 41
3.2.4.3 工藝特點 41
3.2.4.4 工藝法存在的問題 42
3.2.5 氯硅烷歧化法制備硅烷 42
3.2.5.1 工藝過程 42
3.2.5.2 主要反應 42
3.2.5.3 工藝特點 42
3.2.5.4 工藝法存在的問題 43
3.2.6 烷氧基硅烷歧化法 43
3.2.6.1 工藝過程 43
3.2.6.2 主要反應 44
3.2.6.3 工藝特點 44
3.2.6.4 工藝法存在的問題 44
3.3 高純硅烷氣體的凈化工藝路線 45