氧化鈰拋光皮
氧化鈰拋光皮，日本技術，國內優勢價格：
參數類別 | 具體規格 | 說明 |
|---|---|---|
核心成分 | 聚氨酯基材 + 高純度氧化鈰磨料（CeO₂含量＞85%） | 磨粒粒徑D50控制在0.8-1.4μm，避免劃傷工件 |
硬度選擇 | HA70±5 / HA80±5 / HA90±5 | 軟硬度按需匹配，硬規格適用于粗拋去痕，軟規格適用于精拋提亮 |
尺寸與凹槽 | 支持定制任意尺寸及凹槽設計 | 完美適配各類拋光設備，貼合2.5D/3D曲面工件弧度 |
適用pH范圍 | 6.0-8.0（中性至弱堿性） | 兼容常規拋光液，不易發生化學腐蝕變質 |
全場景覆蓋：從工業量產到精細加工
核心適用材質：光學玻璃、手機蓋板玻璃、石英晶體、半導體硅片、寶石、不銹鋼、精密模具等。
工業量產場景
• 3C產品2.5D/3D玻璃前后蓋板拋光 • 汽車玻璃、后視鏡劃痕修復 • 光學儀器鏡片批量加工 • 半導體硅片背損傷去除
精細加工場景
• 水晶工藝品鏡面拋光 • 鐘表鏡片精密處理 • 激光陀螺窗口拋光 • 高功率激光器鏡片加工
品質與服務
• 每批次產品均通過激光測厚檢測，厚度公差控制在±5μm內。
• 支持免費拿樣測試，提供專屬技術顧問，根據您的具體工況優化拋光方案。
• 批量采購享受定制化包裝服務，全程物流溯源，售后問題24小時響應。
歡迎來電免費索取樣板或蒞臨指導，謝謝！
1 8 3 1 8 3 1 8 3 0 6 陳 志 鵬
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