EVG®770分步重復納米壓印光刻系統分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。將鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。EVG開拓了這種非常規光刻技術，擁有多年技術，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量化的生產。廣西納米壓印美元價

EVG®720自動SmartNIL®UV納米壓印光刻系統自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVG's專有SmartNIL®技術EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識，能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結構，具有無人能比的吞吐量，非常適合批量生產下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（DOEs）。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網，獲得更多信息。廣東納米壓印研發可以用嗎分步重復刻印通常用于高效制造晶圓級光學器件或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。

HERCULES®NIL特征：全自動UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）200毫米/300毫米橋接工具能力全區域烙印覆蓋批量生產ZUI小40nm或更小的結構支持各種結構尺寸和形狀，包括3D適用于高地形（粗糙）表面*分辨率取決于過程和模板HERCULES®NIL技術數據：晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/200和300毫米解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：SmartNIL®曝光源：大功率LED（i線）>400mW/cm2對準：≤±3微米自動分離：支持的前處理：提供所有預處理模塊迷你環境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的

UV納米壓印光刻EVGroup提供完整的UV納米壓印光刻（UV-NIL）產品線，包括不同的權面積壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多用途的聚合物印模技術。高效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和蕞少的殘留層，并具有易于擴展的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期，即納米壓印是一種用于大規模生產微米和納米級結構的高性能，低成本和具有批量生產能力的技術。EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。

世界lingxian的衍射波導設計商和制造商WaveOptics宣布與EVGroup（EVG）進行合作，EVGroup是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的lingxian供應商，以帶來高性能增強現實（AR）波導以當今業界的低成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。WaveOptics首席執行官DavidHayes評論：“這一合作伙伴關系標志著增強現實行業的轉折點，是大規模生產高質量增強現實解決方案的關鍵步驟，這是迄今為止尚無法實現的能力。”EVG的專業知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底，AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元。“這項合作是釋放AR可穿戴設備發展的關鍵；我們共同處于有利位置，可以在AR中引入大眾市場創新，以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑。EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸蕞大為第三代（550 mm x 650 mm）的基板上實現。EVG770納米壓印優惠價格

EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到磚家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。廣西納米壓印美元價

SmartNIL技術簡介SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現無人能比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。廣西納米壓印美元價