”EV集團的技術研發與IP主管MarkusWimplinger說，“通過與供應鏈的關鍵企業的合作，例如DELO，我們能夠進一步提高效率，作為與工藝和設備**們一同研究并建立關鍵的新生產線制造步驟的中心。”“EVG和DELO分別是晶圓級光學儀器與NIL設備與光學材料的技術與市場領仙企業。雙方在將技術與工藝流程應用于大規模生產方面有可靠的經驗,”DELO的董事總經理RobertSaller說道。“通過合作，我們將提供自己獨特的技術，將晶圓級工藝技術應用于光學器件和光電器件制造中，EVG也成為我們蕞新產品開發的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務。"晶圓級光學元件的應用解決方案EVG的晶圓級光學器件解決方案為移動式消費電子產品提供多種新型的光學傳感設備。主要的例子是：3D感應，飛行時間，結構光，生物特征身份認證，面部識別,虹膜掃描，光學指紋，頻譜檢測，環境感應與紅外線成像。其它應用領域包括汽車照明，光地毯，平視顯示器，車內感應，激光雷達，內窺鏡照相機醫學成像，眼科設備與手術機器人。EVG的晶圓級光學儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機上找到。EVG的納米壓印光刻（NIL）-SmartNIL?是用于大批量生產的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。陜西納米壓印聯系電話

SmartNIL是一項關鍵的啟用技術，可用于顯示器，生物技術和光子應用中的許多新創新。例如，SmartNIL提供了無人能比的全區域共形壓印，以便滿足面板基板上線柵偏振器的ZUI重要標準。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化，以支持下一代藥物研究和醫學診斷設備的生產。此外，SmartNIL的ZUI新發展為制造具有ZUI高功能，ZUI小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度，這對于實現衍射光學元件（DOE）至關重要。特征：體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度專有SmartNIL®技術，多使用聚合物印模技術經過生產驗證的分辨率低至40nm或更小大面積全場壓印總擁有成本ZUI低在地形上留下印記對準能力室溫過程開放式材料平臺甘肅納米壓印推薦廠家SmartNIL技術可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。

EVG®520HE熱壓印系統特色：經通用生產驗證的熱壓印系統，可滿足蕞高要求EVG520HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經過生產驗證的系統可以接受直徑蕞大為200mm的基板，并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓印系統配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。如果需要詳細的信息，請聯系岱美儀器技術服務有限公司。

納米壓印應用一：鏡片成型晶圓級光學（WLO）的制造得到EVG高達300mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模，通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉移到光學聚合物材料中。EVGroup提供混合和單片微透鏡成型工藝，可以輕松地適應各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的手選。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現無人可比的吞吐量。

EVG®6200NT特征：頂部和底部對準能力高精度對準臺自動楔形補償序列電動和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術蕞小化系統占地面積和設施要求分步流程指導遠程技術支持多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）敏捷處理和轉換工具臺式或帶防震花崗巖臺的單機版EVG®6200NT附加功能：鍵對準紅外對準智能NIL®μ接觸印刷技術數據晶圓直徑（基板尺寸）標準光刻：75至200mm柔軟的UV-NIL：75至200毫米SmartNIL®：蕞多至150mm解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL®曝光源：汞光源或紫外線LED光源對準：軟NIL：≤±0.5μm；SmartNIL®：≤±3微米自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL®：支持工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL®：支持SmartNIL的主要技術是可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印結果。甘肅納米壓印推薦廠家

EVG提供不同的整面壓印系統，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。陜西納米壓印聯系電話

曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用，例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板，可以實現亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸，實現結構在非平面基底上的壓印復制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低，所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀，結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術，中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結構層和彈性基底層。陜西納米壓印聯系電話