Filmetrics 的技術(shù)Filmetrics 提供了范圍廣范的測(cè)量生物醫(yī)療涂層的方案：支架： 支架上很小的涂層區(qū)域通常需要顯微鏡類的儀器。 我們的 F40 在幾十個(gè)實(shí)驗(yàn)室內(nèi)得到使用，測(cè)量鈍化和/或藥 物輸送涂層。我們有獨(dú)特的測(cè)量系統(tǒng)對(duì)整個(gè)支架表面的自動(dòng)厚度測(cè)繪，只需在測(cè)量時(shí)旋轉(zhuǎn)支架。植入件： 在測(cè)量植入器件的涂層時(shí)，不規(guī)則的表面形狀通常是為一挑戰(zhàn)。 Filmetrics 提供這一用途的全系列探頭。導(dǎo)絲和導(dǎo)引針： 和支架一樣，這些器械常?？梢杂孟?F40 這樣的顯微鏡儀器。導(dǎo)液管和血管成型球囊的厚度:大于 100 微米的厚度和可見光譜不透明性決定了 F20-NIR 是這一用途方面全世界眾多實(shí)驗(yàn)室內(nèi)很受歡迎的儀器。紫外光可測(cè)試的深度：有秀的薄膜（SOI 或 Si-SiGe）或者厚樣的近表面局部應(yīng)力。防反射涂層膜厚儀鍍膜行業(yè)

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在,在兩級(jí)之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對(duì)不同沉積條件是獨(dú)特的，必須有精確的厚度測(cè)量。測(cè)量厚度時(shí)還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。Filmetrics設(shè)備提供的復(fù)雜的測(cè)量程序同時(shí)測(cè)量和輸出每個(gè)要求的硅薄膜參數(shù)，并且“一鍵”出結(jié)果。測(cè)量范例多晶硅被廣范用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變，這些特性隨之改變，所以準(zhǔn)確地測(cè)量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間，加入二氧化硅層，以增加光學(xué)對(duì)比，其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測(cè)得。F20可以很容易地測(cè)量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)，以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來測(cè)量多晶硅薄膜光學(xué)特性。防反射涂層膜厚儀鍍膜行業(yè)F3-sX 系列測(cè)厚范圍：10μm - 3mm；波長：960-1580nm。

自動(dòng)厚度測(cè)量系統(tǒng)幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動(dòng)測(cè)繪。人工加載或機(jī)器人加載均可。在線厚度測(cè)量系統(tǒng)監(jiān)測(cè)控制生產(chǎn)過程中移動(dòng)薄膜厚度。高達(dá)100Hz的采樣率可以在多個(gè)測(cè)量位置得到。附件Filmetrics提供各種附件以滿足您的應(yīng)用需要。F20系列臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)只需按下一個(gè)按鈕，您在不到一秒鐘的同時(shí)測(cè)量厚度和折射率。設(shè)置同樣簡單,只需插上設(shè)備到您運(yùn)行Windows?系統(tǒng)計(jì)算機(jī)的USB端口,并連接樣品平臺(tái),F20已在世界各地有成千上萬的應(yīng)用被使用.事實(shí)上，我們每天從我們的客戶學(xué)習(xí)更多的應(yīng)用.選擇您的F20主要取決于您需要測(cè)量的薄膜的厚度（確定所需的波長范圍）

測(cè)量眼科設(shè)備涂層厚度光譜反射率可用于測(cè)量眼鏡片減反射(AR)光譜和殘余顏色，以及硬涂層和疏水層的厚度。測(cè)量范例：F10-AR系統(tǒng)配備HC升級(jí)選擇通過反射率信息進(jìn)行硬涂層厚度測(cè)量。這款儀器儀器采用接觸探頭，從而降低背面反射影響，并可測(cè)凹凸表面。接觸探頭安置在鏡頭表面。FILMeasure軟件自動(dòng)分析采集的光譜信息以確定鏡頭是否滿足指定的反射規(guī)格?？蓽y(cè)平均反射率，指定點(diǎn)蕞小蕞大反射率，以抵消硬涂層的存在。如果這個(gè)鏡頭符合要求，系統(tǒng)操作人員將得到清晰的“很好”指示。測(cè)量方式: 紅外干涉(非接觸式)。

（光刻膠）polyerlayers（高分子聚合物層）polymide（聚酰亞胺）polysilicon（多晶硅）amorphoussilicon（非晶硅）基底實(shí)例：對(duì)于厚度測(cè)量，大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對(duì)于光學(xué)常數(shù)測(cè)量，需要一塊平整的鏡面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要進(jìn)行處理使之不能反射。包括：silicon（硅）glass（玻璃）aluminum（鋁）gaas（砷化鎵）steel（鋼）polycarbonate（聚碳酸脂）polymerfilms（高分子聚合物膜）應(yīng)用半導(dǎo)體制造液晶顯示器光學(xué)鍍膜photoresist光刻膠oxides氧化物nitrides氮化物cellgaps液晶間隙polyimide聚酰亞胺ito納米銦錫金屬氧化物hardnesscoatings硬鍍膜anti-reflectioncoatings增透鍍膜filters濾光f20使用**仿真活動(dòng)來分析光譜反射率數(shù)據(jù)。標(biāo)準(zhǔn)配置和規(guī)格F20-UVF20F20-NIRF20-EXR只測(cè)試厚度1nm~40μm15nm~100μm100nm~250μm15nm~250μm測(cè)試厚度和n&k值50nmandup100nmandup300nmandup100nmandup波長范圍200-1100nm380-1100nm950-1700nm380-1700nm準(zhǔn)確度大于％或2nm精度1A2A1A穩(wěn)定性光斑大小20μm至可選樣品大小1mm至300mm及更大探測(cè)器類型1250-元素硅陣列512-元素砷化銦鎵1000-元素硅&512-砷化銦鎵陣列光源鎢鹵素?zé)簟Ｄず駜x是一種用于測(cè)量薄膜或涂層的厚度的儀***方授權(quán)分銷膜厚儀可以試用嗎

膜厚儀通過不同的測(cè)量原理來實(shí)現(xiàn)對(duì)膜厚的精確測(cè)量。防反射涂層膜厚儀鍍膜行業(yè)

FSM413紅外干涉測(cè)量設(shè)備關(guān)鍵詞：厚度測(cè)量，光學(xué)測(cè)厚，非接觸式厚度測(cè)量，硅片厚度，氮化硅厚度，激光測(cè)厚，近紅外光測(cè)厚，TSV,CD,Trench，砷化鎵厚度，磷化銦厚度，玻璃厚度測(cè)量，石英厚度，聚合物厚度,背磨厚度，上下兩個(gè)測(cè)試頭。Michaelson干涉法，翹曲變形。如果您對(duì)該產(chǎn)品感興趣的話，可以給我留言！產(chǎn)品名稱：紅外干涉厚度測(cè)量設(shè)備·產(chǎn)品型號(hào)：FSM413EC,FSM413MOT，F(xiàn)SM413SADP，F(xiàn)SM413C2C,FSM8108VITEC2C如果您需要更多的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器。防反射涂層膜厚儀鍍膜行業(yè)