EVG®150--光刻膠自動處理系統

EVG®150是全自動化光刻膠處理系統中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達300毫米。EVG150設計為完全模塊化的平臺，可實現自動噴涂/旋轉/顯影過程和高通量性能。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復性。具有高形貌的晶片可以通過EVG的OmniSpray技術進行均勻涂覆，而傳統的旋涂技術則受到限制。EVG®150特征：晶圓尺寸可達300毫米多達六個過程模塊可自定義的數量-多達二十個烘烤/冷卻/汽化堆多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載 EVG的大批量制造系統目的是在以蕞佳的成本效率與蕞高的技術標準相結合，為全球服務基礎設施提供支持。湖南化合物半導體光刻機

HERCULES光刻軌道系統所述HERCULES®是一個高容量的平臺整合整個光刻工藝流在一個系統中，縮小處理工序和操作者支持。HERCULES基于模塊化平臺，將EVG建立的光學掩模對準技術與集成的晶圓清洗，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結合。HERCULES支持各種晶片尺寸的盒到盒處理。HERCULES安全地處理厚，彎曲度高，矩形，小直徑的晶圓，甚至可以處理設備托盤。精密的頂側和底側對準以及亞微米至超厚（ZUI大300微米）光刻膠的涂層可用于夾層和鈍化應用。出色的對準臺設計可實現高產量的高精度對準和曝光結果。廣西光刻機微流控應用EVG101是光刻膠處理，EVG105是光刻膠烘焙機，EVG120、EVG150是光刻膠處理自動化系統。

HERCULES光刻軌道系統特征：生產平臺以蕞小的占地面積結合了EVG精密對準和光刻膠處理系統的所有優勢；多功能平臺支持各種形狀，尺寸，高度變形的模具晶片甚至托盤的全自動處理；高達52,000cP的涂層可制造高度高達300微米的超厚光刻膠特征；CoverSpinTM旋轉蓋可降低光刻膠消耗并優化光刻膠涂層的均勻性；OmniSpray®涂覆用于高地形表面的優化的涂層；納流®涂布，并通過結構的保護；自動面膜處理和存儲；光學邊緣曝光和/或溶劑清潔以去除邊緣顆粒；使用橋接工具系統對多種尺寸的晶圓進行易碎，薄或翹曲的晶圓處理；返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統；多用戶的概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）。

EVG也提供量產型掩模對準系統。對于在微米范圍內的光刻圖形，掩模對準器是ZUI具成本效益的技術，與其他解決方案相比，每層可節省30％以上的成本，這對用戶來說是至關重要的。EVG的大批量制造系統旨在以ZUI佳的成本效率與ZUI高的技術標準相結合，并由卓YUE的全球服務基礎設施提供支持。ZUI重要的是，大焦深曝光光學系統完美匹配大批量生產中的厚抗蝕劑，表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內，我們為許多客戶提供了量產型的光刻機系統，得到了他們的無數好評。岱美是EVG光刻機在中國的代理商，提供本地化的貼心服務。

我們可以根據您的需求提供進行優化的多用途系統。我們的掩模對準系統設計用于從掩模對準到鍵合對準的快速簡便轉換。此外，可以使用用于壓印光刻的可選工具集，例如UV-納米壓印光刻，熱壓印或微接觸印刷。所有系統均支持原位對準驗證軟件，以提高手動操作系統的對準精度和可重復性。EVG620NT/EVG6200NT可從手動到自動基片處理，實現現場升級。此外，所有掩模對準器都支持EVG專有的NIL技術。如果您需要納米壓印設備，請訪問岱美一起官網，或者直接聯系我們。EVG在要求嚴苛的應用中積累了多年的光刻膠旋涂和噴涂經驗。青海光刻機美元價

光刻機利用光學原理將光線聚焦在光刻膠上，通過光刻膠的曝光和顯影過程，將芯片設計圖案轉移到硅片上。湖南化合物半導體光刻機

掩模對準系統：EVG的發明，例如1985年世界上較早的擁有底面對準功能的系統，開創了頂面和雙面光刻，對準晶圓鍵合和納米壓印光刻的先例，并設定了行業標準。EVG通過不斷開發掩模對準器產品來增強這些核欣光刻技術，從而在這些領域做出了貢獻。EVG的掩模對準系統可容納尺寸蕞大，尺寸和形狀以及厚度蕞大為300mm的晶片和基板，旨在為高級應用提供先進的自動化程度和研發靈活性的復雜解決方案。EVG的掩模對準器和工藝能力已經過現場驗證，并已安裝在全球的生產設施中，以支持眾多應用，包括高級封裝，化合物半導體，功率器件，LED，傳感器和MEMS制造。湖南化合物半導體光刻機