中清航科開放6條全自動切割產(chǎn)線，支持從8英寸化合物半導體到12英寸邏輯晶圓的來料加工。云端訂單系統(tǒng)實時追蹤進度，平均交貨周期48小時，良率承諾99.2%。先進封裝RDL層切割易引發(fā)銅箔撕裂。中清航科應用超快飛秒激光（脈寬400fs）配合氦氣保護，在銅-硅界面形成納米級熔融區(qū)，剝離強度提升5倍。中清航科搭建全球較早切割工藝共享平臺，收錄3000+材料參數(shù)組合。客戶輸入晶圓類型/厚度/目標良率，自動生成比較好參數(shù)包，工藝開發(fā)周期縮短90%。

針對晶圓切割產(chǎn)生的廢料處理難題，中清航科創(chuàng)新設計了閉環(huán)回收系統(tǒng)。切割過程中產(chǎn)生的硅渣、切割液等廢料，通過管道收集后進行分離處理，硅材料回收率達到 95% 以上，切割液可循環(huán)使用，不僅降低了危廢處理成本，還減少了對環(huán)境的污染，符合半導體產(chǎn)業(yè)的綠色發(fā)展理念。在晶圓切割的精度校準方面，中清航科引入了先進的激光干涉測量技術(shù)。設備出廠前，會通過高精度激光干涉儀對所有運動軸進行全行程校準，生成誤差補償表，確保設備在全工作范圍內(nèi)的定位精度一致。同時提供定期校準服務，配備便攜式校準工具，客戶可自行完成日常精度核查，保證設備長期穩(wěn)定運行。浙江半導體晶圓切割廠中清航科切割工藝白皮書下載量超10萬次，成行業(yè)參考標準。

隨著芯片輕薄化趨勢，中清航科DBG（先切割后研磨）與SDBG（半切割后研磨）設備采用漸進式壓力控制技術(shù)，切割階段只切入晶圓1/3厚度，經(jīng)背面研磨后自動分離。該方案將100μm以下晶圓碎片率降至0.01%，已應用于5G射頻模塊量產(chǎn)線。冷卻液純度直接影響切割良率。中清航科納米級過濾系統(tǒng)可去除99.99%的0.1μm顆粒，配合自主研發(fā)的抗靜電添加劑，減少硅屑附著造成的短路風險。智能溫控模塊維持液體粘度穩(wěn)定，延長刀片壽命200小時以上呢。

當晶圓切割面臨復雜圖形切割需求時，中清航科的矢量切割技術(shù)展現(xiàn)出獨特優(yōu)勢。該技術(shù)可精確識別任意復雜切割路徑，包括圓弧、曲線及異形圖案，通過分段速度調(diào)節(jié)確保每一段切割的平滑過渡，切割軌跡誤差控制在 2μm 以內(nèi)。目前已成功應用于光電子芯片的精密切割，為 AR/VR 設備中心器件生產(chǎn)提供有力支持。半導體生產(chǎn)車間的設備協(xié)同運作對通信兼容性要求極高，中清航科的晶圓切割設備多方面支持 OPC UA 通信協(xié)議，可與主流 MES 系統(tǒng)實現(xiàn)實時數(shù)據(jù)交互。通過標準化數(shù)據(jù)接口，將切割進度、設備狀態(tài)、質(zhì)量數(shù)據(jù)等信息實時上傳至管理平臺，助力客戶實現(xiàn)生產(chǎn)過程的數(shù)字化管控與智能決策。中清航科真空吸附晶圓托盤，解決超薄晶圓切割變形難題。

面對全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈的區(qū)域化布局趨勢，中清航科建立了覆蓋亞洲、歐洲、北美地區(qū)的本地化服務網(wǎng)絡。其 7×24 小時在線技術(shù)支持團隊，可通過遠程診斷系統(tǒng)快速定位設備故障，配合就近備件倉庫，將平均故障修復時間（MTTR）控制在 4 小時以內(nèi)，確保客戶生產(chǎn)線的連續(xù)穩(wěn)定運行。綠色制造已成為半導體行業(yè)的發(fā)展共識，中清航科在晶圓切割設備的設計中融入多項節(jié)能技術(shù)。其研發(fā)的變頻激光電源，能源轉(zhuǎn)換效率達到 92%，較傳統(tǒng)設備降低 30% 的能耗；同時采用水循環(huán)冷卻系統(tǒng)，水資源回收率達 95% 以上，幫助客戶實現(xiàn)環(huán)保指標與生產(chǎn)成本的雙重優(yōu)化。中清航科納米涂層刀片壽命延長3倍，單刀切割達500片。常州藍寶石晶圓切割刀片

復合材料晶圓切割選中清航科多工藝集成設備，兼容激光與刀片。舟山sic晶圓切割代工廠

GaN材料硬度高且易產(chǎn)生解理裂紋。中清航科創(chuàng)新水導激光切割（Water Jet Guided Laser），利用高壓水柱約束激光束，冷卻與沖刷同步完成。崩邊尺寸<8μm，熱影響區(qū)只2μm，滿足射頻器件高Q值要求。設備振動導致切割線寬波動。中清航科應用主動磁懸浮阻尼系統(tǒng)，通過6軸加速度傳感器實時生成反向抵消力，將振幅壓制在50nm以內(nèi)。尤其適用于超窄切割道（<20μm）的高精度需求。光學器件晶圓需避免邊緣微裂紋影響透光率。中清航科紫外皮秒激光系統(tǒng)（波長355nm）配合光束整形模塊，實現(xiàn)吸收率>90%的冷加工，切割面粗糙度Ra<0.05μm，突破攝像頭模組良率瓶頸。舟山sic晶圓切割代工廠