遠程等離子體源RPS腔體結構，包括進氣口，點火口，回流腔連通電離腔頂端與進氣腔靠近進氣口一側頂部，氣體由進氣口進入經過進氣腔到達電離腔，點火發生電離反應生成氬離子然后通入工藝氣體，通過出氣口排出至反應室內，部分電離氣體經回流腔流至進氣腔內，提高腔體內部電離程度，以便于維持工藝氣體的電離，同時可提高原子離化率；電離腔的口徑大于進氣腔，氣體在進入電離腔內部時降低了壓力，降低了F/O原子碰撞導致的原子淬滅問題，保證電離率，提高清潔效率。晟鼎RPS自研PEO表面處理工藝，增加PEO膜層使用壽命，降低維護成本。遠程等離子電源RPS客服電話

RPS遠程等離子源在光伏行業的提質增效：在PERC太陽能電池制造中，RPS遠程等離子源通過兩步法優化背鈍化層質量。首先采用H2/Ar遠程等離子體清洗硅片表面，將界面復合速率降至50cm/s以下；隨后通過N2O/SiH4遠程等離子體沉積氧化硅鈍化層，實現表面復合速率<10cm/s的優異性能。量產數據顯示，采用RPS遠程等離子源處理的PERC電池，轉換效率是 值提升0.3%，光致衰減率降低40%。針對OLED顯示器的精細金屬掩膜板（FMM）清洗，RPS遠程等離子源開發了專屬工藝方案。通過Ar/O2遠程等離子體在150℃以下溫和去除有機殘留，將掩膜板張力變化控制在±0.5N以內。在LTPS背板制造中，RPS遠程等離子源將多晶硅刻蝕均勻性提升至95%以上，確保了TFT器件閾值電壓的一致性。某面板廠應用報告顯示，采用RPS遠程等離子源后，OLED像素開口率提升至78%，亮度均勻性達90%。北京遠程等離子源RPS電源半導體為半導體設備腔室提供高效在線清潔解決方案。

RPS遠程等離子源應用領域已深度擴展至2.5D/3D先進封裝技術中。在硅通孔（TSV）工藝中，深硅刻蝕后會在孔內留下氟碳聚合物側壁鈍化層，必須在導電材料填充前將其完全去除，否則會導致電阻升高或互聯開路。RPS遠程等離子源利用其產生的氟捕獲劑或還原性自由基，能選擇性地高效清理 這些殘留物，同時保護暴露的硅襯底和底部金屬。另一方面，在晶圓-晶圓鍵合或芯片-晶圓鍵合前，表面潔凈度與活化程度直接決定了鍵合強度與良率。RPS遠程等離子源應用領域在此環節通過氧或氮的自由基對鍵合表面（如SiO2、SiN）進行處理，能有效去除微量有機污染物并大幅增加表面羥基（-OH）密度，從而在低溫下實現極高的鍵合能量。這為高性能計算、人工智能芯片等需要高密度垂直集成的產品提供了可靠的互聯解決方案。

在OLED和LCD顯示面板的制造中，玻璃基板或聚酰亞胺薄膜基板的尺寸越來越大，對清洗和刻蝕工藝的均勻性提出了極高要求。RPS遠程等離子源應用領域在這一場景下優勢明顯。由于其等離子體均勻性不受基板尺寸限制，活性自由基能夠均勻地分布在整個大尺寸面板表面，實現無死角的徹底清潔。在OLED制造中，用于去除基板表面的微量有機物和顆粒，確保TFT背板和OLED發光層的質量；在柔性顯示中，用于對PI基板進行表面活化，增強后續薄膜的附著力。此外，在顯示面板的薄膜晶體管陣列制程中，RPS技術也用于氮化硅或非晶硅薄膜的低溫、低損傷刻蝕，確保了數百萬個TFT性能的高度一致，從而保障了顯示畫面的均勻性和低壞點率。晟鼎RPS等離子濃度檢測:通過檢測解離腔體內電流判斷等離子濃度，確保等離子體穩定。

RPS遠程等離子源應用領域在半導體前道制程中尤為關鍵，特別是在高級 邏輯芯片和存儲芯片的晶圓清洗環節。隨著技術節點向5納米乃至更小尺寸邁進，任何微小的污染和物理損傷都可能導致器件失效。傳統的濕法清洗或直接等離子體清洗難以避免圖案傾倒、關鍵尺寸改變或材料損傷等問題。而RPS遠程等離子源通過物理分離等離子體產生區與處理區，只將高活性的氧自由基、氫自由基等中性粒子輸送到晶圓表面，能夠在不施加物理轟擊的情況下，高效去除光刻膠殘留、有機污染物和金屬氧化物。這種溫和的非接觸式處理方式，能將對脆弱的FinFET結構或柵極氧化層的損傷降至比較低，確保了器件的電學性能和良率。因此，在先進制程的預擴散清洗、預柵極清洗以及刻蝕后殘留物去除等關鍵步驟中，RPS遠程等離子源應用領域已成為不可或缺的工藝選擇，為摩爾定律的持續推進提供了可靠的表面處理保障。RPS遠程等離子源原理。北京半導體設備RPS電源

RPS避免了傳統等離子體源直接接觸處理表面可能帶來的熱和化學損傷。遠程等離子電源RPS客服電話

晟鼎遠程等離子體電源RPS的應用類型：1.CVD腔室清潔①清潔HDP-CVD腔（使用F原子）②清潔PECVD腔（使用F原子）③清潔Low-kCVD腔（使用O原子、F原子）④清潔WCVD腔（使用F原子）2.表面處理、反應性刻蝕和等離子體輔助沉積①通過反應替代 （biao面氧化）進行表面改性②輔助PECVD③使用預活化氧氣和氮氣輔助低壓反應性濺射沉積④使用預活化氧氣和氮氣進行反應性蒸發沉積⑤等離子體增強原子層沉積（PEALD）3.刻蝕：①灰化（除去表面上的碳類化合物）；②使用反應性含氧氣體粒子處理光刻膠。遠程等離子電源RPS客服電話