工業超純水設備

超純水是為了研制超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，其電阻率大于18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值（25℃）。簡單得說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以采用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質量難以保證。在原子光譜、高效液相色譜、超純物質分析、痕量物質等的某些實驗中，需要用超純水，

超純水的制備如下  ：

（1）加入少量高錳酸鉀的水源，用玻璃蒸餾裝置進行二次蒸餾，再以全石英蒸餾器進行蒸餾，收集于石英容器中，可得超純水。

（2）使用強酸型陽離子和強堿型陰離子交換樹脂柱的混合床或串聯柱。可充分除去水中的陽、陰離子，其電阻率達10 Q·cm的水，俗稱去離子水，再用全石英蒸餾器進行蒸餾，收集可得超純水。 注意事項： 5.當處理地下水，井水，泉水時，由于鐵錳離子多，硬度大，設計設備時要帶上軟化過濾器。重慶純水設備一體化設備

反滲透膜種類及清洗方法

 二、反滲透膜清洗方法

   1.低壓沖洗反滲透設備：定期對反滲透設備進行大流量、低壓力、低pH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當反滲透設備進水SDI突然升高超過5.5以上時，應進行低壓沖洗，待SDI值調至合格后再開機。

   2.反滲透設備停運保護：由于生產的波動，反滲透設備不可避免地要經常停運，短期或長期停用時必須采取保護措施，不適當地處理會導致膜性能下降且不可恢復。

   3.反滲透膜化學清洗：在正常運行條件下，反滲透膜也可能被無機物垢、膠體、金屬氧化物等污染，這些物質沉積在膜表面上會引起反滲透設備出水下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對膜造成不可恢復的損傷，因此，為了恢復良好的透水和除鹽性能，需要對反滲透膜進行化學清洗。

純水設備基本功能配置

   一、自動補水控制

   當水位超過標準水位時，應有控制系統能自動關閉水箱，低于特定水位時也要能自動供水。

   二、無水保護設施

   對于水箱來說應該要配置無水時的防護設施，也就是說在水處理的過程中設備應該有自動化控制系統，在設備斷水或者是沒有水的情況下要能夠自動關閉水泵。

   三、斷電保護配置

   運行出現故障時，應具有自動檢測功能，并能及時切斷電源，防止故障的進一步擴大。

   四、高/低壓防護

   壓力在過高或過低時，應具備ro系統的自動關閉功能

電子級超純水設備常用工藝(水質符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)

     1.預處理－反滲透－ 水箱－陽床－陰床－混合床－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－精密過濾器－用水對象

     2.預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象

     3.預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化系統水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象

     4.預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象

電子級超純水設備應用場合：

1.GMP純化水半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；

2.超純材料和超純化學試劑；

3.實驗室和中試車間；

4.汽車、表面拋光處理；

5.其他高科技精微產品。

二、反滲透膜清洗方法2 3.反滲透膜化學清洗：在正常運行條件下，反滲透膜也可能被無機物垢、膠體.重慶純水設備一體化設備

超純水設備簡介：

EDI超純水設備是用于工業生產用水水的純水制取裝置，根據客戶的需求采用的不同的工藝流程來制取符合客戶生產用純水的標準。系統采用RO+EDI純化水工藝，產水水質滿足客戶的生產用水要求，符合藥典、GMP、FDA要求。系統整體人性化設計，模塊化安裝，占地面積小，操作簡單方便，運行穩定，節能。

超純水設備主要特點：

1.產水水質高而具有較佳的穩定度高。

2.連續不間斷制水，不因再生而停機。

3.模塊化生產，并可實現全自動控制。

4.不須酸堿再生，無污水排放。

5.無酸堿再生設備和化學藥品儲運。

6.設備結構緊湊，占地面積小。

7.運行費用及維修成本低。

8.運行操作簡單，勞動強度低。

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