芯片超聲顯微鏡的主要技術要求是 μm 級掃描精度，這一特性使其能精細檢測芯片內部的微觀結構完整性，重點檢測對象包括金線鍵合與焊盤連接。在芯片制造中，金線鍵合是實現芯片與外部引腳電氣連接的關鍵工藝，若鍵合處存在虛焊、金線斷裂等問題，會直接導致芯片功能失效；焊盤則是芯片與基板的連接界面，焊盤脫落、氧化等缺陷也會影響芯片性能。該設備通過精密掃描機構驅動探頭移動，掃描步長可控制在 1-5μm，確保能覆蓋芯片的每一個關鍵區域。檢測時，高頻聲波（80-200MHz）可穿透芯片封裝層，清晰呈現金線的形態（如弧度、直徑）、鍵合點的結合狀態及焊盤的完整性，若存在缺陷，會在成像中表現為金線斷裂處的信號中斷、焊盤脫落處的反射異常，技術人員可通過圖像細節快速判斷缺陷類型與位置。相控陣超聲顯微鏡實現三維高精度成像檢測。江蘇空洞超聲顯微鏡系統

太陽能晶錠內部缺陷影響電池轉換效率，超聲顯微鏡通過透射式掃描可檢測晶格錯位、微裂紋等隱患。某研究采用50MHz探頭對單晶硅錠進行檢測，發現0.1mm深隱裂，通過聲速映射技術確認該缺陷導致局部少子壽命下降30%。國產設備支持晶錠全自動掃描，單次檢測耗時8分鐘，較傳統金相顯微鏡效率提升20倍。動態B-Scan模式可實時顯示材料內部結構變化，適用于焊接過程監測。某案例中，國產設備通過20kHz采樣率捕捉鋁合金焊接熔池流動，發現聲阻抗波動與焊縫氣孔形成存在相關性。其圖像處理算法可自動提取熔池尺寸參數，為焊接工藝優化提供數據支持。該功能已應用于高鐵車體制造，將焊縫缺陷率從0.8%降至0.15%。上海異物超聲顯微鏡芯片超聲顯微鏡支持多種成像模式切換，其中 C 掃描模式可生成芯片表面的 2D 缺陷分布圖，便于批量篩查。

SAM 超聲顯微鏡的透射模式是專為特定場景設計的檢測方案，與主流的反射模式形成互補，其工作原理為在樣品上下方分別設置發射與接收換能器，通過捕獲穿透樣品的聲波能量實現檢測。該模式尤其適用于半導體器件的批量篩選，對于塑料封裝等高頻聲波衰減嚴重的材料，反射信號微弱難以識別，而透射信號能更直接地反映內部結構完整性。在實際應用中，透射模式常與自動化輸送系統結合，對晶圓、SMT 貼片器件進行快速檢測，可高效識別貫穿性裂紋、芯片錯位等嚴重缺陷，是半導體量產過程中的重要質量管控手段。

在半導體制造領域，封裝質量直接決定芯片的可靠性與使用壽命，而內部微小缺陷如空洞、裂紋等往往難以用常規光學設備檢測。SAM 超聲顯微鏡（掃描聲學顯微鏡）的主要優勢在于其高頻超聲探頭，通常工作頻率可達幾十兆赫茲甚至上百兆赫茲。高頻超聲波能夠穿透半導體封裝材料，當遇到不同介質界面（如芯片與基板的結合面）時，會產生反射、折射等信號差異。設備通過接收并分析這些信號，轉化為高分辨率的灰度或彩色圖像，清晰呈現內部結構。對于芯片與基板間的空洞缺陷，即使尺寸只為微米級，SAM 超聲顯微鏡也能精細識別，幫助工程師及時發現封裝工藝中的問題，避免因空洞導致的散熱不良、信號傳輸受阻等隱患，保障半導體器件的穩定運行。通過聲阻抗對比技術，可識別電子元件內部直徑≥5μm 的金屬、非金屬異物雜質。

芯片超聲顯微鏡支持 A 掃描、B 掃描、C 掃描等多種成像模式切換，其中 C 掃描模式因能生成芯片表面的 2D 缺陷分布圖，成為批量芯片篩查的主要工具，大幅提升檢測效率。在芯片量產檢測中，需對大量芯片（如每批次數千片）進行快速缺陷篩查，傳統的單點檢測方式效率低下，無法滿足量產需求。C 掃描模式通過探頭在芯片表面進行二維平面掃描，將每個掃描點的反射信號強度轉化為灰度值，生成芯片表面的 2D 圖像，圖像中不同灰度值表示不同的材料特性或缺陷狀態，如空洞、分層等缺陷會呈現為高亮或低亮區域，技術人員可通過觀察 2D 圖像快速判斷芯片是否存在缺陷，以及缺陷的位置與大致范圍。該模式的檢測速度快，單片芯片（如 10mm×10mm）的檢測時間可控制在 1-2 分鐘內，且支持自動化批量檢測，可與產線自動化輸送系統對接，實現芯片的自動上料、檢測、下料與缺陷分類，滿足量產場景下的高效檢測需求。超聲顯微鏡操作界面友好，提升用戶體驗。江蘇相控陣超聲顯微鏡廠家

空耦式超聲顯微鏡避免樣品表面損傷。江蘇空洞超聲顯微鏡系統

SAM 超聲顯微鏡（即掃描聲學顯微鏡，簡稱 C-SAM）的主要工作模式為脈沖反射模式，這一模式賦予其高分辨率與無厚度限制的檢測優勢，使其成為半導體行業不可或缺的無損檢測設備。在 IC 芯片后封裝測試中，傳統 X 射線難以識別的 Die 表面脫層、錫球隱性裂縫及填膠內部氣孔等缺陷，SAM 可通過壓電換能器發射 5-300MHz 高頻聲波，利用聲阻抗差異產生的反射信號精細捕獲。同時，它在 AEC-Q100 等行業標準中被明確要求用于應力測試前后的結構檢查，能直觀呈現主要部件內部的細微變化，為失效分析提供關鍵依據。江蘇空洞超聲顯微鏡系統