維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測量光束質(zhì)量參數(shù)，為激光技術(shù)在多領(lǐng)域的高效應(yīng)用提供支撐。在工業(yè)加工領(lǐng)域，其亞微米級光斑校準(zhǔn)能力有效優(yōu)化切割、焊接及打標(biāo)工藝，確保光束輪廓的一致性，從而保障加工質(zhì)量。在醫(yī)療領(lǐng)域，該設(shè)備用于眼科準(zhǔn)分子激光手術(shù)設(shè)備的校準(zhǔn)，實(shí)時(shí)監(jiān)測光束能量分布，確保手術(shù)的安全性。在科研場景中，它支持皮秒級脈沖激光測量，為物理與材料提供高精度數(shù)據(jù)，推動新型激光器件的。在光通信領(lǐng)域，該分析儀能夠?qū)崿F(xiàn)光纖端面光斑形態(tài)分析，保障光信號傳輸?shù)姆€(wěn)定性。在農(nóng)業(yè)與生命領(lǐng)域，通過分析激光誘變育種的光束參數(shù)，優(yōu)化植物生長調(diào)控的效率。全系產(chǎn)品覆蓋200-2600nm寬光譜范圍，支持千萬級功率測量，結(jié)合M2因子測試模塊與AI分析軟件，為各行業(yè)提供從光斑形態(tài)到傳播特性的全鏈路檢測方案，助力客戶提升產(chǎn)品性能和生產(chǎn)效率。光斑分析儀如何測量 M2 因子？維度光電自研光斑分析儀作用

維度光電深刻認(rèn)識到高功率光束檢測在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和，而常規(guī)激光器功率普遍較高，這使得大功率光束檢測成為激光應(yīng)用的難點(diǎn)。為解決這一問題，維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制，可直接測量近 10W 高功率激光，保障了測試過程的安全與高效。為應(yīng)對更高功率，又推出單次和雙次取樣配件，可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片，可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1，取樣率 4% - 5%，采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)和 C 口安裝，有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測量不同角度入射激光；雙次取樣配件 DL - LBA - 2，取樣率 0.16% - 0.25%，內(nèi)部兩片取樣透鏡緊湊安裝，能應(yīng)對 400W 功率光束，多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒?yàn)環(huán)境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度，實(shí)現(xiàn)更高功率激光測量。同時(shí)，其緊湊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的取樣光程滿足聚焦光斑測量，單次 68mm，雙次 53mm，為激光生產(chǎn)提供了強(qiáng)大的檢測支持。大靶面光斑分析儀廠家國產(chǎn)光斑分析儀廠家有哪些？維度光電深耕18年。

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測提供高性價(jià)比解決方案： 掃描狹縫式：國內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換，覆蓋 190-2700nm 光譜，可測 2.5μm-10mm 光束，0.1μm 分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機(jī)制支持 10W 級高功率直接測量，無需外置衰減片。 相機(jī)式：400-1700nm 寬譜響應(yīng)，支持實(shí)時(shí) 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)擴(kuò)展功率量程，可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊：通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法，測量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù)，適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面，支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告，滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高精度檢測，助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量。

維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米用狹縫式（2.5μm 精度），毫米級用相機(jī)式（10mm 量程）。 功率等級：高功率用狹縫式（近 10W），微瓦級用相機(jī)式（適配衰減片）。 光束形態(tài)：高斯用狹縫式（經(jīng)濟(jì)），非高斯用相機(jī)式（保留細(xì)節(jié)）。 脈沖特性：單脈沖用相機(jī)式（觸發(fā)同步），連續(xù)/高頻用狹縫式（匹配掃描頻率）。 2. 應(yīng)用場景適配 工業(yè)：高功率用狹縫式，動態(tài)監(jiān)測與校準(zhǔn)用相機(jī)式，組合方案覆蓋全流程。 醫(yī)療：相機(jī)式監(jiān)測能量分布，脈沖激光適配觸發(fā)模式確保精度。 科研：超短脈沖與復(fù)雜光束分析用相機(jī)式，材料加工優(yōu)化結(jié)合狹縫式。 光通信：光纖檢測用相機(jī)式，激光器表征用狹縫式高靈敏度測量。 3. 功能擴(kuò)展規(guī)劃 單一需求：以光斑尺寸與功率為，如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復(fù)雜場景：雙技術(shù)組合（狹縫式 + 相機(jī)式），實(shí)現(xiàn)全場景覆蓋。 長期規(guī)劃：科研機(jī)構(gòu)選全功能模塊（M2 因子測試、皮秒同步），工業(yè)用戶選基礎(chǔ)款 + 定制接口。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光質(zhì)量？

Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀，通過國內(nèi)的雙模式切換技術(shù)，實(shí)現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié)，創(chuàng)新設(shè)計(jì)解決三大檢測痛點(diǎn)： 小光斑測量：刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài)，避免像素丟失 高功率檢測：狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測量近 10W 激光，無需衰減片 大光斑分析：狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu)，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數(shù)。緊湊設(shè)計(jì)適配多場景安裝，通過 CE/FCC 認(rèn)證，適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域，幫助客戶提升光束質(zhì)量檢測效率，降**檢測成本。高功率激光光束質(zhì)量怎么測？維度光電自研光斑分析儀官網(wǎng)

多光斑光束質(zhì)量怎么測？維度光電自研光斑分析儀作用

維度光電針對當(dāng)前市場上的諸多行業(yè)痛點(diǎn)，隆重推出了光斑分析儀系列產(chǎn)品。在國內(nèi)激光光束質(zhì)量分析領(lǐng)域，長期以來存在著一個(gè)的問題，那就是缺乏能夠提供多樣化型號及定制化解決方案的光斑分析儀品牌。許多企業(yè)長期受限于國外設(shè)備的長周期交付和難以定制的缺陷，這不僅影響了生產(chǎn)效率，還增加了企業(yè)的運(yùn)營成本。 針對這一問題，維度光電決定立項(xiàng)光斑分析儀系列產(chǎn)品，旨在解決這一行業(yè)難題。我們深知，只有通過自主和創(chuàng)新，才能打破國外設(shè)備的壟斷局面，為國內(nèi)企業(yè)提供更加高效、便捷的光束質(zhì)量分析解決方案。因此，我們致力于打造國內(nèi)專業(yè)、多面的光束質(zhì)量分析儀品牌，以滿足不同企業(yè)的需求。 我們的光斑分析儀系列產(chǎn)品不僅具備多樣化的型號，還能夠根據(jù)客戶的實(shí)際需求進(jìn)行定制化設(shè)計(jì)。無論是激光加工、激光醫(yī)療、激光科研還是其他相關(guān)領(lǐng)域，我們的產(chǎn)品都能提供、高效的光束質(zhì)量分析服務(wù)。我們相信，通過我們的努力，能夠?yàn)閲鴥?nèi)激光行業(yè)的發(fā)展注入新的活力，推動整個(gè)行業(yè)的進(jìn)步。維度光電自研光斑分析儀作用