Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設(shè)計：掃描狹縫式側(cè)重高功率場景（千萬級功率），通過物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn)安全測量，衰減級數(shù)達(dá) 10?:1，無需外置衰減片；相機(jī)式則主打?qū)捁庾V（200-2600nm）與實(shí)時成像功能，支持 100fps 高速連拍。相較于傳統(tǒng)設(shè)備，其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上，可解析直徑小于 5μm 的亞微米級光斑；M2 測試模塊支持光束傳播特性動態(tài)分析，通過滑軌式掃描獲取 100 + 測量點(diǎn)數(shù)據(jù)。軟件集成 AI 算法，可自動識別光斑模式，率達(dá) 99.7%，將人工分析效率提升 90%，單組數(shù)據(jù)處理時間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘。激光發(fā)散角怎么測，維度光電M2測量系統(tǒng)。激光發(fā)散角光斑分析儀操作

維度光電光束質(zhì)量測量解決方案基于兩大技術(shù)平臺： 掃描狹縫式系統(tǒng)：采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu)，通過 ±90° 旋轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn) XY 軸同步掃描，結(jié)合刀口 / 狹縫雙模式切換，突破亞微米級光斑檢測極限。光學(xué)系統(tǒng)集成高靈敏度光電探測器，配合高斯擬合算法，實(shí)現(xiàn) 0.1μm 分辨率與 ±0.8% 測量重復(fù)性。 相機(jī)式成像系統(tǒng)：搭載背照式 CMOS 傳感器（量子效率 95%@500-1000nm），結(jié)合非球面透鏡組消除畸變，支持皮秒級觸發(fā)同步與全局快門技術(shù)，捕捉單脈沖光斑形態(tài)。算法通過二階矩法計算 M2 因子，測量精度達(dá) ±0.3%。 創(chuàng)新突破： 狹縫物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn) 10W 級激光直接測量 面陣傳感器動態(tài)范圍擴(kuò)展技術(shù)支持 1μW-1W 寬功率檢測 AI 缺陷診斷模型自動識別光斑異常（率 97.2%）可見光光斑分析儀發(fā)展可用于自動化設(shè)備集成的光斑質(zhì)量分析儀。

維度光電-BeamHere 光斑分析儀憑借高精度光束參數(shù)測量能力，為激光技術(shù)在各領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用提供支持。在工業(yè)制造中，其亞微米級光斑校準(zhǔn)功能幫助優(yōu)化激光切割、焊接與打標(biāo)工藝，確保光束能量分布均勻性，提升加工一致性。醫(yī)療領(lǐng)域中，BeamHere 用于眼科準(zhǔn)分子激光設(shè)備的光束形態(tài)監(jiān)測，通過實(shí)時分析能量分布與光斑穩(wěn)定性，保障手術(shù)精度與安全性。科研場景下，該設(shè)備支持超短脈沖激光的時空特性，為新型激光器與光束整形技術(shù)突破提供數(shù)據(jù)支撐。光通信領(lǐng)域，BeamHere 可檢測光纖端面光斑質(zhì)量，優(yōu)化光信號耦合效率，確保通信系統(tǒng)性能穩(wěn)定。全系產(chǎn)品覆蓋 200-2600nm 寬光譜范圍，支持千萬級功率測量，結(jié)合 M2 因子分析與 AI 算法，為客戶提供從光束診斷到工藝優(yōu)化的全流程解決方案。

Dimension-Labs 推出 Beamhere 系列光斑分析儀，通過配套通用軟件構(gòu)建完整光束質(zhì)量評估體系。該系統(tǒng)集成光斑能量分布測繪、發(fā)散角測量及 M2 因子計算三大功能，可有效分析光束整形、聚焦及準(zhǔn)直效果。所有參數(shù)均符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)，包括光斑寬度、質(zhì)心偏移量和橢圓率等指標(biāo)。用戶可選配 M2 測試模塊，實(shí)現(xiàn)光束傳播方向上的束腰定位、發(fā)散角測量及 M2 因子計算，終通過軟件一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化測試報告。BeamHere把對于激光光束的評價進(jìn)?量化，并由軟件?鍵輸出測試報告，精確且?效的完成光束分析。掃描狹縫光斑分析儀有國產(chǎn)的嗎？

維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米用狹縫式（2.5μm 精度），毫米級用相機(jī)式（10mm 量程）。 功率等級：高功率用狹縫式（近 10W），微瓦級用相機(jī)式（適配衰減片）。 光束形態(tài)：高斯用狹縫式（經(jīng)濟(jì)），非高斯用相機(jī)式（保留細(xì)節(jié)）。 脈沖特性：單脈沖用相機(jī)式（觸發(fā)同步），連續(xù)/高頻用狹縫式（匹配掃描頻率）。 2. 應(yīng)用場景適配 工業(yè)：高功率用狹縫式，動態(tài)監(jiān)測與校準(zhǔn)用相機(jī)式，組合方案覆蓋全流程。 醫(yī)療：相機(jī)式監(jiān)測能量分布，脈沖激光適配觸發(fā)模式確保精度。 科研：超短脈沖與復(fù)雜光束分析用相機(jī)式，材料加工優(yōu)化結(jié)合狹縫式。 光通信：光纖檢測用相機(jī)式，激光器表征用狹縫式高靈敏度測量。 3. 功能擴(kuò)展規(guī)劃 單一需求：以光斑尺寸與功率為，如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復(fù)雜場景：雙技術(shù)組合（狹縫式 + 相機(jī)式），實(shí)現(xiàn)全場景覆蓋。 長期規(guī)劃：科研機(jī)構(gòu)選全功能模塊（M2 因子測試、皮秒同步），工業(yè)用戶選基礎(chǔ)款 + 定制接口。可用于產(chǎn)線檢測的光斑分析儀。光通信光斑分析儀

近場光斑測試方案，推進(jìn)半導(dǎo)體，硅光行業(yè)優(yōu)化升級。激光發(fā)散角光斑分析儀操作

Dimension-Labs 推出 Beamhere 光束質(zhì)量分析系統(tǒng)，針對激光加工、醫(yī)療設(shè)備等領(lǐng)域的光束質(zhì)量評估需求。該系列產(chǎn)品通過多維度檢測模塊，可對光束能量分布進(jìn)行實(shí)時可視化分析，同步獲取發(fā)散角、M2 因子等參數(shù)。支持光束整形效果驗證、聚焦光斑優(yōu)化及準(zhǔn)直系統(tǒng)校準(zhǔn)三大典型應(yīng)用場景，所有測試結(jié)果均符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)。可選配的 M2 測試模塊可實(shí)現(xiàn)光束傳播特性的全程分析，終由軟件自動生成量化評估報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。激光發(fā)散角光斑分析儀操作