光纖紫外線、可見光譜和近紅外備用光纖。接觸探頭是相當堅固的，但是光纖不能經常被抽屜碰撞或者被椅子壓過。該套件包括指令，以及簡單的維修工具，新的和舊風格的探頭。FO-PAT-SMA-SMA-200-22米長，直徑200um的光纖，兩端配備SMA接頭。米長，分叉反射探頭。

通用附件攜帶箱等。手提電腦手提電腦預裝FILMeasure軟件、XP和Microsoft辦公軟件。

電腦提箱用于攜帶F10、F20、F30和F40系統的提箱。ConflatFeedthrough真空穿通，"conflat、雙出入孔SMA，并通過泄漏測試。LensPaper-CenterHole**開孔鏡頭紙，用于保護面朝下的樣品，5本各100張。 采用Michaelson干涉方法，紅外波段的激光能更好的穿透被測物體，準確得到測試結果。導電膜膜厚儀

F40 系列

包含的內容：集成光譜儀/光源裝置FILMeasure 8 軟件FILMeasure **軟件 (用于遠程數據分析)MA-Cmount 安裝轉接器 顯微鏡轉接器光纖連接線BK7 參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 厚度標準 聚焦/厚度標準BG-Microscope (作為背景基準)

額外的好處：每臺系統內建超過130種材料庫, 隨著不同應用更超過數百種應用工程師可立刻提供幫助（周一 - 周五）網上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯網)硬件升級計劃

如果需要了解更多的信息，請訪問我們官網或者聯系我們。 膜厚測量儀膜厚儀推薦型號F50-UV測厚范圍：5nm-40μm；波長：190-1100nm。

F50 和 F60 的晶圓平臺提供不同尺寸晶圓平臺。

F50晶圓平臺- 100mm用于 2"、3" 和 4" 晶圓的 F50 平臺組件。

F50晶圓平臺- 200mm用于 4"、5"、 6" 和 200mm 晶圓的 F50 平臺組件。

F50晶圓平臺- 300mm用于 4"、5"、6"、200mm 和 300mm 晶圓的 F50 平臺組件。

F50晶圓平臺- 450mmF50 夾盤組件實用于 4", 5", 6", 200mm, 300mm, 以及450mm毫米晶片。

F50晶圓平臺- 訂制預訂 F50 的晶圓平臺，通常在四星期內交貨。

F60晶圓平臺- 200mm用于 4"、5"、6" 和 200mm 晶圓的 F60 平臺組件。

F60晶圓平臺- 300mm用于 4"、5"、6"、200mm 和 300mm 晶圓的 F60 平臺組件。

測量眼科設備涂層厚度光譜反射率可用于測量眼鏡片減反射 (AR) 光譜和殘余顏色，以及硬涂層和疏水層的厚度。

測量范例：

F10-AR系統配備HC升級選擇通過反射率信息進行硬涂層厚度測量。這款儀器儀器采用接觸探頭，從而降低背面反射影響，并可測凹凸表面。接觸探頭安置在鏡頭表面。FILMeasure軟件自動分析采集的光譜信息以確定鏡頭是否滿足指定的反射規格。可測平均反射率，指定點**小比較大反射率，以抵消硬涂層的存在。如果這個鏡頭符合要求，系統操作人員將得到清晰的“很好”指示。 重復性: 0.1 μm (1 sigma)單探頭* ；0.8 μm (1 sigma)雙探頭*。

電介質成千上萬的電解質薄膜被用于光學，半導體，以及其它數十個行業, 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。 

測量范例氮化硅薄膜作為電介質，鈍化層，或掩膜材料被廣泛應用于半導體產業。這個案例中，我們用F20-UVX成功地測量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系數。有趣的事，氮化硅薄膜的光學性質與薄膜的分子當量緊密相關。使用Filmetrics專有的氮化硅擴散模型，F20-UVX可以很容易地測量氮化硅薄膜的厚度和光學性質，不管他們是富硅，貧硅，還是分子當量。 產品名稱：紅外干涉厚度測量設備。授權分銷膜厚儀醫療設備

F20-EXR測厚范圍：15nm - 250μm；波長：380-1700nm。導電膜膜厚儀

濾光片整平光譜響應。

ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器.

ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器.

ND#2 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#2 衰減整平濾波器.

420nm 高通濾波器.420nm 高通濾波器於濾波器架.

515nm 高通濾波器.515nm 高通濾波器於濾波器架.

520nm 高通濾波器 +ND1.520nm 高通濾波器 + ND#1 十倍衰減整平濾波器.

520nm 高通濾波器 + ND#2520nm 高通濾波器 + ND#2 一百倍衰減整平濾波器.

550nm 高通濾波器550nm 高通濾波器於濾波器架. 導電膜膜厚儀