5、刃壁刃壁是沖裁凹模孔刃口的側壁。6、刃口斜度刃口斜度是沖裁凹模孔刃壁的每側斜度。7、氣墊氣墊是以壓縮空氣為原動力的彈頂器。參閱“彈頂器”。8、反側壓塊反側壓塊是從工作面的另一側支持單向受力凸模的零件。9、導套導套是為上、下模座相對運動提供精密導向的管狀零件...
由測量系統、指示部分和表殼部分等組成。2.測量系統——由接頭,彈簧管和齒輪轉動機構等組成。3.由被測介質的壓力作用,使彈簧管的末端(自由端)相應地產生位移,借助連桿帶動機構中的扇形齒輪產生一角位移,而使齒輪軸得以偏轉——傳給指示部分。4.指示部分——由分度盤、...
浸沒式光刻機是通過在物鏡與晶圓之間注入超純水,等效縮短光源波長并提升數值孔徑,從而實現更高分辨率的半導體制造**設備。2024年9月工信部文件顯示,國產氟化氬浸沒式光刻機套刻精度已達到≤8nm水平。該技術研發涉及浸液系統、光學控制等多項復雜工藝,林本堅團隊在浸...
自動精密沖床是一種用于金屬沖壓成型的工業設備,主要應用于汽車、電子、五金制造等領域,可適配自動化送料系統實現高效生產。其機身采用鋼板焊接結構并經過熱處理,具有高剛性和穩定性。設備**部件包含曲軸、齒輪軸等硬化研磨組件,結合重心平衡設計保障沖壓精度。配置雙聯電磁...
能強調前景和突出遠近對比。這是廣角鏡頭的另一個重要性能。所謂強調前景和突出遠近對比,是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強調近大遠小的對比度。也就是說,用廣角鏡頭拍出來的照片,近的東西更大,遠的東西更小,從而讓人感到拉開了距離,在縱深方向上產生強烈的******效果。...
光刻機系統是材料科學領域的關鍵設備,通過光學成像原理將掩模版上的微細圖形精確轉移到光刻膠表面。系統配置1Kw近紫外光源與6V/30W顯微鏡燈適配器,配備氣動防震臺保障精密操作環境,其技術參數截至2020年11月24日仍在使用 [1]。通過光化學反應將掩模版上的...
1、廣角鏡頭拍攝的景物,近處大、遠處小,******效果夸張。被攝體越靠近鏡頭夸張越明顯。所以,拍攝人像時,人物不能靠相機太近,否則很容易拍出“肥鼻鼠耳”的變形照片。當然,利用這種效果拍攝的藝術作品除外,例如《拉選票的手》,就是一張非常***的照片。用廣角鏡頭...
介紹04:54新型DUV光刻機公布,套刻精度達8納米!與全球前列設備差多少?直接分步重復曝光系統 (DSW) 超大規模集成電路需要有高分辨率、高套刻精度和大直徑晶片加工。直接分步重復曝光系統是為適應這些相互制約的要求而發展起來的光學曝光系統。主要技術特點是:...
⒊定焦廣角鏡頭一般都比涵蓋相應焦距段的變焦鏡頭體積小,重量輕。這能使你的相機將不那么扎眼,便于抓拍。⒋廣角定焦鏡頭一般都比變焦鏡頭的廣角段成像好,這是鏡頭的設計所決定的,變焦鏡頭由于要考慮所有焦距段都有相對好的成像,就要**局部的利益讓整體有一個相對好的表現。...
特點長焦鏡頭以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的交換鏡頭為例,遠攝鏡頭通常是指焦距約在80至400毫米之間的攝影鏡頭。遠攝鏡頭**基本的特點是,鏡頭視角小,所以視野范圍相對狹窄;能把遠處的景物拉近,使之充滿畫面,具有“望遠”的功能,從而使景物的遠近感消失;縮短了...
2006年時,萊特完成了他相信幾乎正確的復制品。萊特和安提基特拉機械研究計劃成員仍同時進行安提基特拉機械的研究。萊特稍微修改他的模型,引進了計劃團隊建議的針狀和槽狀嚙合齒輪,這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國家考古博物館展示...
2024年9月工信部發布的技術指標顯示,國產浸沒式光刻機已實現:1.套刻精度≤8nm [1]2.滿足28nm制程需求 [1]3.具備多重曝光技術適配能力研發過程中需突破:超純水循環系統的納米級污染控制高速掃描下的液體湍流抑制光路折射率穩定性維持林本堅團隊在浸液...
在曝光過程中,需要對不同的參數和可能缺陷進行跟蹤和控制,會用到檢測控制芯片/控片(Monitor Chip)。根據不同的檢測控制對象,可以分為以下幾種:a、顆粒控片(Particle MC):用于芯片上微小顆粒的監控,使用前其顆粒數應小于10顆;b、卡盤顆粒控...
入門的定焦鏡頭當然以50為優先。古典的三鏡組合是這樣子的:35、50、135,有了這三個鏡頭,足可應付大多數的場合需要。日后若有需要,再作擴充。定焦鏡頭另外提供幾個不同的組合給大家參考。愛拍風景的人可以考慮的三鏡組合為24、35(用35代替50)、135。愛拍...
由測量系統、指示部分和表殼部分等組成。2.測量系統——由接頭,彈簧管和齒輪轉動機構等組成。3.由被測介質的壓力作用,使彈簧管的末端(自由端)相應地產生位移,借助連桿帶動機構中的扇形齒輪產生一角位移,而使齒輪軸得以偏轉——傳給指示部分。4.指示部分——由分度盤、...
光刻技術是現代集成電路設計上一個比較大的瓶頸。現cpu使用的45nm、32nm工藝都是由193nm液浸式光刻系統來實現的,但是因受到波長的影響還在這個技術上有所突破是十分困難的,但是如采用EUV光刻技術就會很好的解決此問題,很可能會使該領域帶來一次飛躍。但是涉...
長焦距鏡頭是指比標準鏡頭的焦距長的攝影鏡頭。長焦距鏡頭分為普通遠攝鏡頭和超遠攝鏡頭兩類。普通遠攝鏡頭的焦距長度接近標準鏡頭,而超遠攝鏡頭的焦距卻遠遠大于標準鏡頭。以135照相機為例,其鏡頭焦距從85毫米-300毫米的攝影鏡頭為普通遠攝鏡頭,300毫米以上的為超...
1902年5月17日,考古學家維拉理奧斯·史大理斯檢查發現的沉船中物品時發現一個齒輪嵌在一塊巖石中。 [1]史大理斯一開始認為這是天文鐘,但多數學者認為這是時代錯誤,這物品和同時期發現的其他東西相較之下太過復雜。對該物品調查的熱潮很快下降,直到1951年英國物...
得指出的是,EUV光刻技術的研發始于20世紀80年代。**早希望在半周期為70nm的節點(對應邏輯器件130nm節點)就能用上EUV光刻機 [1]。可是,這一技術一直達不到晶圓廠量產光刻所需要的技術指標和產能要求。一拖再拖,直到2016年,EUV光刻機仍然沒能...
舉例來說,對某一確定的被攝體,水平方向需要200個像素才能再現其細節,如果成像寬度為10mm,則光學分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任,如果成像寬度為1mm,則要求鏡頭的光學分辨率必須在200線/毫米以上。另一方面,傳統膠卷對紫外線比較敏感,外拍時常需要加裝U...
視角范圍大,可以涵蓋大范圍景物。所謂視角范圍大,即在同一視點(與被攝物的距離保持不變)用廣角、標準和遠攝三種不同焦距的攝影鏡頭取景,結果是前者要比后者在上下左右拍攝到更多的景物。當攝影者在沒有退路的情況下,若用50毫米標準鏡頭難以完整拍下的景物(如人物集體留影...
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時...
兩種工藝常規光刻技術是采用波長為2000~4500埃的紫外光作為圖像信息載體,以光致抗蝕劑為中間(圖像記錄)媒介實現圖形的變換、轉移和處理,**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質層上的一種工藝。在廣義上,它包括光復印和刻蝕工藝兩個主要方面。①光復印工藝...
長焦距鏡頭適于拍攝距離遠的景物,景深小容易使背景模糊主體突出,但體積笨重且對動態主體對焦不易。35mm 相機長焦距鏡頭通常分為三級,135mm以下稱中焦距,135-500mm稱長焦距,500mm 以上稱超長焦距。120 相機的150mm的鏡頭相當于35mm相機...
由于193nm沉浸式工藝的延伸性非常強,同時EUV技術耗資巨大進展緩慢。EUV(極紫外線光刻技術)是下一代光刻技術(<32nm節點的光刻技術)。它是采用波長為13.4nm的軟x射線進行光刻的技術。EUV光刻的基本設備方面仍需開展大量開發工作以達到適于量產的成熟...
使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點:一是視角小。所以,拍攝的景物空間范圍也小,在相同的拍攝距離處,所拍攝的影像大于標準鏡頭,適用于拍攝遠處景物的細部和拍攝不易接近的被攝體。二是景深短。所以,能使處于雜亂環境中的被攝主體得到突出。但給精確調焦帶來了一定的困...
2.該機械有一個刻上至少2000個字母的蓋子,因此安提基特拉機械研究計劃的人員經常認為這是儀器說明書。這**是為了便于攜帶和個人使用。3.“說明書”的存在**該裝置是科學家和工程師設計作為非專業的旅行者使用。(記載文字有許多關于地中海的地理位置資訊)該機械不太...
1、廣角鏡頭拍攝的景物,近處大、遠處小,******效果夸張。被攝體越靠近鏡頭夸張越明顯。所以,拍攝人像時,人物不能靠相機太近,否則很容易拍出“肥鼻鼠耳”的變形照片。當然,利用這種效果拍攝的藝術作品除外,例如《拉選票的手》,就是一張非常***的照片。用廣角鏡頭...
主要技術指標:○精密壓力表測量范圍、精確度等級○型號、彈簧管材料、測量范圍MPa、精確度等級、結構特點○精密壓力表使用環境條件:5~40℃,相對濕度不大于80%,且環境震動和壓力源的波動對儀表的精確讀數無影響。○精密壓力表溫度影響:使用環境溫度如偏離20±3℃...
定焦鏡頭的好處,主要體現在短焦段的使用上:⒈定焦的廣角或標準鏡頭一般都比涵蓋相應焦距段的變焦鏡頭口徑大。一般的定焦廣角和中焦鏡頭的光圈都在2.8以上,通光量大,便于在低照度情況下拍攝。定焦鏡頭⒉定焦的廣角鏡頭一般都比涵蓋相應焦距段的變焦鏡頭**短對焦距離近。比...