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2、廣角鏡頭使用遮光罩或?yàn)V色鏡時(shí)，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場(chǎng)發(fā)暗，而這一情況，在取景時(shí)不容易察覺(jué)，但在照片上卻很明顯。因此，運(yùn)用附件時(shí)， 一定要從說(shuō)明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說(shuō)明書中沒(méi)有說(shuō)明，拍攝時(shí)就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...

優(yōu)點(diǎn)雖然使用長(zhǎng)焦距鏡頭要受到不少因素的影響，但其優(yōu)點(diǎn)卻是主要的。在遠(yuǎn)距離拍攝風(fēng)光、人物，在看臺(tái)拍攝舞臺(tái)、體育比賽等，在動(dòng)物園拍攝動(dòng)物，在野外拍攝禽獸，加輔助鏡進(jìn)行近拍等等，在這些眾多的領(lǐng)域中，無(wú)處不是它的用武之地。在一般情況下拍攝，為了保持照相機(jī)的穩(wěn)定，比較好...

對(duì)于新影像的進(jìn)一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進(jìn)一步發(fā)展，認(rèn)為該儀器相當(dāng)于一個(gè)天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運(yùn)動(dòng)，還可顯示內(nèi)側(cè)行星（水星和金星）和外側(cè)行星（火星、木星和土星）的運(yùn)動(dòng)。萊特提出該機(jī)械的日月運(yùn)動(dòng)是基于喜帕恰斯的理論，五顆古典行星...

英特爾高級(jí)研究員兼技術(shù)和制造部先進(jìn)光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說(shuō)過(guò)“針對(duì)未來(lái)的IC設(shè)計(jì)，我認(rèn)為正確的方向是具有互補(bǔ)性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當(dāng)前能力**強(qiáng)且**成熟的技術(shù)，能夠滿足精確度和成本要求，但缺點(diǎn)是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...

由英國(guó)、希臘和美國(guó)**組成的安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員于2008年7月時(shí)，在機(jī)械上的一個(gè)青銅轉(zhuǎn)盤發(fā)現(xiàn)了一個(gè)字 "Olympia"，相信是用來(lái)指示卡利巴斯周期（Callippic cycle）；另外也發(fā)現(xiàn)了其他古希臘競(jìng)賽的名字，因此這可能是用來(lái)追蹤古代奧林匹克運(yùn)...

善的評(píng)價(jià)莫過(guò)于MTF （Modulation Transfer Function）。但是由于像差（標(biāo)定的原因），鏡頭的每個(gè)范圍都有一個(gè)MTF值。這些范圍指的是：（1）近軸部分，（2）離軸部分，（3）當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)存在不對(duì)稱畸變時(shí)，上述兩部分在不同方向上的子部分。每...

四是，鏡頭的焦距越長(zhǎng)，相機(jī)就必須把握得越穩(wěn)定，以避免影像模糊。經(jīng)驗(yàn)準(zhǔn)則是只有當(dāng)快門速度至少等于鏡頭焦距毫米數(shù)的倒數(shù)時(shí)才能夠手持鏡頭進(jìn)行拍攝，也稱為“安全快門”。也就是說(shuō)，當(dāng)快門速度低于1/100秒時(shí)就不能手持100mm鏡頭拍攝，低于1/500秒時(shí)就不能手持50...

1：可用機(jī)電式驅(qū)動(dòng)器或液壓缸作為驅(qū)動(dòng)動(dòng)力。2：快速、精確地對(duì)卷材進(jìn)行定位，使用的卷材寬度可達(dá)1930mm（76.0″）。3：低摩擦滾珠軸套和轉(zhuǎn)動(dòng)桿的設(shè)計(jì)。4：耐用的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)可長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)使用，**降低維修的需要。5：可選配的伺服對(duì)中器提高設(shè)置和卷材線性速度。6：...

使用長(zhǎng)焦距鏡頭拍攝具有以下幾個(gè)方面的特點(diǎn)： [3]視角小所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，適用于拍攝遠(yuǎn)處景物的細(xì)部和拍攝不易接近的被攝體 [3]。景深短所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào) 焦帶來(lái)了一...

22、壓料檻壓料檻是斷面呈矩形的壓料筋特稱。參閱“壓料筋”。23、承料板承料板是用于接長(zhǎng)凹模上平面，承托沖壓材料的板狀零件。24、連續(xù)模連續(xù)模是具有兩個(gè)或更多工位的沖模，材料隨壓力機(jī)行程逐次送進(jìn)一工位，從而使沖件逐步成形。25、側(cè)刃側(cè)刃是在條（帶、卷）料側(cè)面切...

廣角鏡頭是一種焦距短于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭、視角大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭、焦距長(zhǎng)于魚眼鏡頭、視角小于魚眼鏡頭的攝影鏡頭。廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于...

準(zhǔn)分子光刻技術(shù)作為當(dāng)前主流的光刻技術(shù)，主要包括：特征尺寸為0．1μm的248 nm KrF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒(méi)式技術(shù)（Immersion，193i）。其中193...

以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例，魚眼鏡頭是一種焦距約在6-16毫米之間的短焦距超廣角攝影鏡頭，“魚眼鏡頭”是它的俗稱。為使鏡頭達(dá)到比較大的攝影視角，這種攝影鏡頭的前鏡片直徑且呈拋物狀向鏡頭前部凸出，與魚的眼睛頗為相似，“魚眼鏡頭”因此而得名。魚...

景深范圍隨著鏡頭對(duì)被攝體聚焦，可在固定參看符號(hào)兩邊尋找對(duì)應(yīng)于（或接近）己調(diào)定的光圈f/數(shù)，辨認(rèn)焦距標(biāo)記下相對(duì)的數(shù)值，便可決定有效景深。景深的作用光圈大小的改變：通過(guò)相同焦距的鏡頭對(duì)相同距離的被攝體聚焦，該示說(shuō)明光圈大小的調(diào)整是如何改變景深的。一般來(lái)說(shuō)，被攝體的...

糾偏裝置（Deviation rectifying device）是由美國(guó)美塞斯公司旗下FIFE品牌于1898年發(fā)明的機(jī)械裝置，主要用于修正卷材在傳輸過(guò)程中產(chǎn)生的橫向偏移。作為工業(yè)生產(chǎn)中的基礎(chǔ)設(shè)備，其通過(guò)傳感器檢測(cè)與驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)聯(lián)動(dòng)形成閉環(huán)控制，支持跟邊、對(duì)中、跟...

廣角鏡頭***用于大場(chǎng)面風(fēng)景攝影作品的拍攝。 能增加攝影畫面的空間縱深感； 景深較長(zhǎng)，能保證被攝主體的前后景物在畫面上均可清晰的再現(xiàn)。所以，現(xiàn)代絕大多數(shù)的袖珍式自動(dòng)照相機(jī)（俗稱傻瓜照相機(jī)）采用38－35毫米的普通廣角鏡頭； 鏡頭的涵蓋面積大，拍攝的景物范圍寬廣...

電子束光刻基本上分兩大類，一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng)，另一類是直接在基片上直寫納米級(jí)圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術(shù)起源于掃描電鏡，**早由德意志聯(lián)邦共和國(guó)杜平根大學(xué)的G．Mollenstedt等人在20世紀(jì)60年代提出。電子束曝光的波長(zhǎng)取決...

西塞羅的著作《論共和國(guó)》，一本西元前一世紀(jì)的哲學(xué)對(duì)話錄，提及兩個(gè)現(xiàn)代被認(rèn)為是某種天象儀或太陽(yáng)系儀的儀器，可以預(yù)測(cè)日月和五顆行星在天球的位置。這兩個(gè)儀器都是由阿基米德制造，在阿基米德于西元前212年的敘拉古圍城戰(zhàn)身亡后，這兩臺(tái)機(jī)器被羅馬將領(lǐng)馬庫(kù)斯·克勞迪烏斯·馬...

定焦鏡頭（prime lens）是指只有一個(gè)固定焦距的鏡頭，沒(méi)有焦段一說(shuō)，或者說(shuō)只有一個(gè)視野。定焦鏡頭沒(méi)有變焦功能。 [1]定焦鏡頭的設(shè)計(jì)相對(duì)變焦鏡頭而言要簡(jiǎn)單得多，但一般變焦鏡頭在變焦過(guò)程中對(duì)成像會(huì)有所影響，而定焦鏡頭相對(duì)于變焦機(jī)器的比較大好處就是對(duì)焦速度快...

現(xiàn)代學(xué)者的共識(shí)是該機(jī)械是在希臘語(yǔ)使用區(qū)域制造，所有機(jī)械上組件的文字都是通用希臘語(yǔ)。一種假說(shuō)認(rèn)為，該機(jī)械是在希臘當(dāng)時(shí)的天文和機(jī)械工程中心羅德島上的斯多亞學(xué)派學(xué)者波希多尼制造，而天文學(xué)家喜帕恰斯參與了設(shè)計(jì)，因?yàn)樵摍C(jī)械采用了喜帕恰斯的月球運(yùn)動(dòng)理論。但由安提基特拉機(jī)械...

此前人們認(rèn)為該裝置是古希臘人使用的一種計(jì)算器，用來(lái)描繪天空中行星的運(yùn)行軌跡，以幫助當(dāng)時(shí)的人識(shí)別方向。然而，科學(xué)家們現(xiàn)在**了這部裝置表面破損的銘文后發(fā)現(xiàn)，它實(shí)際上是用來(lái)研究**的。安提基特拉機(jī)械裝置是其同時(shí)代的一個(gè)孤例。它憑一己之力改寫了我們對(duì)古希臘技術(shù)的認(rèn)知...

2、廣角鏡頭使用遮光罩或?yàn)V色鏡時(shí)，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場(chǎng)發(fā)暗，而這一情況，在取景時(shí)不容易察覺(jué)，但在照片上卻很明顯。因此，運(yùn)用附件時(shí)， 一定要從說(shuō)明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說(shuō)明書中沒(méi)有說(shuō)明，拍攝時(shí)就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...

后烘方法：熱板，110～130C,1分鐘。目的：a、減少駐波效應(yīng)；b、激發(fā)化學(xué)增強(qiáng)光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護(hù)基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)并移除基團(tuán)使之能溶解于顯影液。顯影方法：a、整盒硅片浸沒(méi)式顯影（Batch Development）。缺點(diǎn)：顯影液消耗很大；顯影...

1.氣相成底模2.旋轉(zhuǎn)烘膠3.軟烘4.對(duì)準(zhǔn)和曝光5.曝光后烘焙（PEB）6.顯影7.堅(jiān)膜烘焙8.顯影檢查光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開(kāi)孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。準(zhǔn)分子光刻技術(shù)作為...

c、水坑（旋覆浸沒(méi)）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動(dòng)保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉(zhuǎn)。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

手動(dòng)光圈變焦鏡頭焦距可變的，有一個(gè)焦距調(diào)整環(huán)，可以在一定范圍內(nèi)調(diào)整鏡頭的焦距，其可變比一般為2 ～3倍，焦距一般為3.6~8mm。實(shí)際應(yīng)用中，可通過(guò)手動(dòng)調(diào)節(jié)鏡頭的變焦環(huán)，可以方便地選擇被監(jiān)視地市場(chǎng)的市場(chǎng)角。但是當(dāng)攝像機(jī)安裝位置固定下以后，在頻繁地手動(dòng)調(diào)整變焦是...

06:28已經(jīng)確認(rèn)！2000年前的計(jì)算機(jī)，安提基特拉機(jī)械安提基特拉機(jī)械是世界上已知**早的齒輪裝置。自從發(fā)現(xiàn)以來(lái)一直讓科學(xué)史和技術(shù)史**好奇又疑惑。數(shù)個(gè)個(gè)人或團(tuán)隊(duì)研究已經(jīng)對(duì)其機(jī)制有更進(jìn)一步了解。主要研究人員有：首先研究它的德國(guó)語(yǔ)言學(xué)家阿爾伯特·雷姆、德瑞克·約...

長(zhǎng)焦距鏡頭適于拍攝距離遠(yuǎn)的景物，景深小容易使背景模糊主體突出，但體積笨重且對(duì)動(dòng)態(tài)主體對(duì)焦不易。35mm 相機(jī)長(zhǎng)焦距鏡頭通常分為三級(jí)，135mm以下稱中焦距，135－500mm稱長(zhǎng)焦距，500mm 以上稱超長(zhǎng)焦距。120 相機(jī)的150mm的鏡頭相當(dāng)于35mm相機(jī)...

由測(cè)量系統(tǒng)、指示部分和表殼部分等組成。2.測(cè)量系統(tǒng)——由接頭，彈簧管和齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)等組成。3.由被測(cè)介質(zhì)的壓力作用，使彈簧管的末端（自由端）相應(yīng)地產(chǎn)生位移，借助連桿帶動(dòng)機(jī)構(gòu)中的扇形齒輪產(chǎn)生一角位移，而使齒輪軸得以偏轉(zhuǎn)——傳給指示部分。4.指示部分——由分度盤、...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導(dǎo)體器件制造的精密科學(xué)儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設(shè)備 [1] [6-7]。其技術(shù)發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動(dòng)集成電路制程不斷進(jìn)步 [3] [6]。當(dāng)前**的EUV光刻系統(tǒng)已實(shí)...