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33、固定板固定板是固定凸模的板狀零件。34、固定卸料板固定卸料板是固定在沖模上位置不動的卸料板。(參閱“卸料板”)。35、固定擋料銷（板）固定擋料銷（板）是在模具內固定不動的擋料銷（板）。(參閱“擋料銷（板）”)。36、卸件器卸件器是從凸模外表面卸脫工（序）...

安提基特拉機械，是為了計算天體在天空中的位置而設計的古希臘青銅機器，屬于模擬計算機。該機器于1900年在希臘安提基特拉島附近的安提基特拉沉船里被發(fā)現。制造年代約在西元前150年到100年之間。現藏于希臘國家考古博物館。 [4]類似的工藝技術（天文鐘）在歐洲直到...

更精確的齒輪齒數此時也已得知，因此可進一步發(fā)展新的齒輪配置模式。更正確的資訊允許萊特可以確認普萊斯建議的后方面板的上方轉盤是顯示235個朔望月，分成五個旋轉量度的默冬章。此外，萊特還提出了驚人的看法，他認為儀器后面的上方轉盤是每次旋轉包含47個部分，總共五個旋...

c、水坑（旋覆浸沒）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

制造掩模版，比較靈活。但由于其曝光效率低，主要用于實驗室小樣品納米制造。而電子束曝光要適應大批量生產，如何進一步提高曝光速度是個難題。為了解決電子束光刻的效率問題，通常將其與其他光刻技術配合使用。例如為解決曝光效率問題，通常采用電子束光刻與光學光刻進行匹配與混...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導體器件制造的精密科學儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設備 [1] [6-7]。其技術發(fā)展歷經紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動集成電路制程不斷進步 [3] [6]。當前**的EUV光刻系統(tǒng)已實...

浸沒式光刻技術所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對 這 些 難 ...

目 前EUV技 術 采 用 的 曝 光 波 長 為13．5nm，由于其具有如此短的波長，所有光刻中不需要再使用光學鄰近效應校正（OPC）技術，因而它可以把光刻技術擴展到32nm以下技術節(jié)點。2009年9月Intel*** 次 向 世 人 展 示 了22 nm工...

6.齒輪傳動箱上蓋拆卸,內部機件磨損及鍵位松動狀況之檢查并進行油槽清洗,潤滑油換新及運轉狀況,噪音,振動測試檢查.7.傳動系統(tǒng)各部位注油點之吐出油量及壓力測試與調整.8.離剎機構之活塞動作,剎車角度,離剎間隙及來令片磨耗量之測試點檢與必要調整.9.滑快導軌與導...

5、刃壁刃壁是沖裁凹模孔刃口的側壁。6、刃口斜度刃口斜度是沖裁凹模孔刃壁的每側斜度。7、氣墊氣墊是以壓縮空氣為原動力的彈頂器。參閱“彈頂器”。8、反側壓塊反側壓塊是從工作面的另一側支持單向受力凸模的零件。9、導套導套是為上、下模座相對運動提供精密導向的管狀零件...

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時...

安提基特拉機械，是為了計算天體在天空中的位置而設計的古希臘青銅機器，屬于模擬計算機。該機器于1900年在希臘安提基特拉島附近的安提基特拉沉船里被發(fā)現。制造年代約在西元前150年到100年之間。現藏于希臘國家考古博物館。 [4]類似的工藝技術（天文鐘）在歐洲直到...

極紫外光刻系統(tǒng)是采用13.5納米波長極紫外光源的半導體制造**設備，可將芯片制程推進至7納米、5納米及更先進節(jié)點。該系統(tǒng)由荷蘭阿斯麥公司于2019年推出第五代產品，突破光學衍射極限，將摩爾定律物理極限推向新高度。2021年12月14日，中國工程院***發(fā)布的"...

安提基特拉機械以其小型化和其部分裝置的復雜性可與19世紀機械鐘表相比而聞名。它有超過30個齒輪，雖然麥可·萊特認為它可多達72個有正三角形齒的齒輪。當借由一個曲柄輸入一個日期，該機械就可算出日月或行星等其他天**置。因為該機械是以地球表面觀測天球者為參考座標，...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。硅片清洗烘干方...

浸沒式光刻技術所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對 這 些 難 ...

選購廣角數碼相機時除了要注意相機的整體性能外，還需要著重考察其鏡頭表現。鏡頭畸變情況是我們首先需要考慮的因素。一般來說廣角下拍攝更容易產生畸變，但不同的相機所拍攝的照片變形的程度也不同，總體而言畸變越輕微越好。其次也要注意畫面的解析度，由于受到成本的限制，數碼...

2005年，X射線檢測提供了關鍵的線索——殘片內部隱藏了數千個一直都未曾被閱讀的字符。雷姆在1905年到1906年間的研究筆記表示，前板載有可知太陽和行星位置的同心環(huán)形天象演示系統(tǒng)。裝置配有前、后兩蓋以保護顯示系統(tǒng)，并刻有大量銘文。2005年的掃描結果顯示，后...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯經過前人數十年為了了解該裝置的研究后，1951年英國科學歷史學家德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯對該機械進行了系統(tǒng)性研究。普萊斯以標題“時鐘以前的發(fā)條裝置”（Clockwork before the Clock）和“發(fā)條裝置的由來”（O...

自動精密沖床是一種用于金屬沖壓成型的工業(yè)設備，主要應用于汽車、電子、五金制造等領域，可適配自動化送料系統(tǒng)實現高效生產。其機身采用鋼板焊接結構并經過熱處理，具有高剛性和穩(wěn)定性。設備**部件包含曲軸、齒輪軸等硬化研磨組件，結合重心平衡設計保障沖壓精度。配置雙聯電磁...

c、水坑（旋覆浸沒）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

⒉較小的畸變：畸變是變焦鏡頭比較大的軟肋，幾乎所有涉及廣角的變焦鏡頭都存在明顯的畸變問題，而定焦鏡頭因為只需對一個焦段的成像進行糾正與優(yōu)化，所以往往很少會出現畸變現象。另外值得一提的是，旁軸相機在廣角畸變上比單反相機有天生優(yōu)勢，例如15mm/f4.5等超廣角鏡...

得指出的是，EUV光刻技術的研發(fā)始于20世紀80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點（對應邏輯器件130nm節(jié)點）就能用上EUV光刻機 [1]。可是，這一技術一直達不到晶圓廠量產光刻所需要的技術指標和產能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻機仍然沒能...

EUV光刻技術的發(fā)展能否趕得上集成電路制造技術的要求？這仍然是一個問題。當然，EUV光刻技術的進步也是巨大的。截止2016年，用于研發(fā)和小批量試產的EUV光刻機，已經被安裝在晶圓廠，并投入使用 [1]。EUV光刻所能提供的高分辨率已經被實驗所證實。光刻機供應商...

手動光圈變焦鏡頭焦距可變的，有一個焦距調整環(huán)，可以在一定范圍內調整鏡頭的焦距，其可變比一般為2 ～3倍，焦距一般為3.6~8mm。實際應用中，可通過手動調節(jié)鏡頭的變焦環(huán)，可以方便地選擇被監(jiān)視地市場的市場角。但是當攝像機安裝位置固定下以后，在頻繁地手動調整變焦是...

精密壓力表由測壓系統(tǒng)、傳動機構、指示裝置和外殼組成。精密壓力表的測壓彈性元件經特殊工藝處理，使精密壓力表性能穩(wěn)定可靠，與高精度的傳動機構配套調試后，能確保精確的指示精度。精密壓力表主要用來校驗工業(yè)用普通壓力表，精密壓力表也可在工藝現場精確的測量對銅合金和合金結...

由英國、希臘和美國**組成的安提基特拉機械研究計劃成員于2008年7月時，在機械上的一個青銅轉盤發(fā)現了一個字 "Olympia"，相信是用來指示卡利巴斯周期（Callippic cycle）；另外也發(fā)現了其他古希臘競賽的名字，因此這可能是用來追蹤古代奧林匹克運...

使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點：一是視角小。所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標準鏡頭，適用于拍攝遠處景物的細部和拍攝不易接近的被攝體。二是景深短。所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調焦帶來了一定的困...

b、接近式曝光（Proximity Printing）。掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm。可以避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時引入了衍射效應，降低了分辨率。1970后適用，但是其最大分辨率*為2～4μm。c、投影式曝光（Proj...

普萊斯在以上文章中發(fā)表的模式是較早基于放射影像所見該機械內部結構之后，提出的較早理論重建模式。他的模式中，機械前方的轉盤**太陽和月球在古埃及歷法上黃道帶的位置。在儀器后面的上方轉盤則顯示一個四年周期，并且和顯示周期為235個朔望月的默冬章相關，這和19個回歸...