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22、壓料檻壓料檻是斷面呈矩形的壓料筋特稱。參閱“壓料筋”。23、承料板承料板是用于接長凹模上平面，承托沖壓材料的板狀零件。24、連續模連續模是具有兩個或更多工位的沖模，材料隨壓力機行程逐次送進一工位，從而使沖件逐步成形。25、側刃側刃是在條（帶、卷）料側面切...

用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時，能有***的背景。可以在較小的環境里，拍到較多的景物，在相同的拍攝距離時，得到的景象比用標準鏡頭拍攝的要小。當拍攝較近的景物時，會產生******變形，還會使前后景物之間的距離感增大。由于它的景深長，很容易把...

長焦距鏡頭是指比標準鏡頭的焦距長的攝影鏡頭。長焦距鏡頭分為普通遠攝鏡頭和超遠攝鏡頭兩類。普通遠攝鏡頭的焦距長度接近標準鏡頭，而超遠攝鏡頭的焦距卻遠遠大于標準鏡頭。以135照相機為例，其鏡頭焦距從85毫米-300毫米的攝影鏡頭為普通遠攝鏡頭，300毫米以上的為超...

1、廣角鏡頭拍攝的景物，近處大、遠處小，******效果夸張。被攝體越靠近鏡頭夸張越明顯。所以，拍攝人像時，人物不能靠相機太近，否則很容易拍出“肥鼻鼠耳”的變形照片。當然，利用這種效果拍攝的藝術作品除外，例如《拉選票的手》，就是一張非常***的照片。用廣角鏡頭...

特點長焦鏡頭以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的交換鏡頭為例，遠攝鏡頭通常是指焦距約在80至400毫米之間的攝影鏡頭。遠攝鏡頭**基本的特點是，鏡頭視角小，所以視野范圍相對狹窄；能把遠處的景物拉近，使之充滿畫面，具有“望遠”的功能，從而使景物的遠近感消失；縮短了...

魚眼鏡頭通常采用內置濾光鏡的方式，根據拍攝需要，由攝影者操縱鏡頭上的濾光鏡轉換環，使需要的濾光鏡轉換至鏡頭的攝影光路中。魚眼鏡頭的前鏡片是整個鏡頭中相當重要的鏡片，由于它向鏡頭前部拋出，故攝影者在拍攝操作（尤其是湊近被攝物拍攝）時要特別注意不要碰撞鏡片。另外，...

遠攝鏡頭也稱為長焦距鏡頭，是指比標準鏡頭的焦距長的攝影鏡頭。長焦距鏡頭分為普通遠攝鏡頭和超遠攝鏡頭兩類，普通遠攝鏡頭的焦距長度接近標準鏡頭，而超遠攝鏡頭的焦距卻遠遠大于標準鏡頭。遠攝鏡頭是攝影輔助鏡頭的一種。鏡頭主焦距***地大于底片對角線長度(即大于標準鏡頭...

***，安提基特拉機械前方面板是現代天文年鑒的前身（Parapegma），可以設定標記特定恒星的升起。一般認為每顆恒星都以機械上一個希臘文字母做標記。在機械后面上方的轉盤是螺旋形，每次旋轉分成47個部分，**19年或235個朔望月的默冬章。該循環對于歷法修正很...

極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術。具體為采用波長為13.4nm 的紫外線。極紫外線就是指需要通過通電激發紫外線管的K極然后放射出紫外線。極紫外光刻（英語：Extrem...

光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。硅片清洗烘干方...

光致抗蝕劑，簡稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發生降解反應而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對駐波效應不敏感、曝光容限大、***密度低和無毒性等...

顯影中的常見問題：a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。顯影液不足造成；b、顯影不夠（Under Development）。顯影的側壁不垂直，由顯影時間不足造成；c、過度顯影（Over Development）。靠...

目前，安提基特拉機械已被基本復原。 [5]以下是托尼·弗里思研究團隊的***復原成果。安提基特拉裝置的制作者無論使用什么周期數據，都需要遵循三個標準：精確性、可分解性與經濟性。簡省且高效，是安提基特拉裝置齒輪傳動系統的一個關鍵特征。新的行星周期數據可以納入齒輪...

世界上***部糾偏裝置,英文：Deviation rectifying device，是美塞斯的FIFE糾發明的，是糾偏裝置是電子糾偏系統的心臟。糾偏裝置是一種修正卷材在向前運動中出現的側邊誤差的機械裝置，位移式糾偏是通過更改卷材在進口和出口跨度來實現卷材側邊...

1：可用機電式驅動器或液壓缸作為驅動動力。2：快速、精確地對卷材進行定位，使用的卷材寬度可達1930mm（76.0″）。3：低摩擦滾珠軸套和轉動桿的設計。4：耐用的結構設計可長時間連續使用，**降低維修的需要。5：可選配的伺服對中器提高設置和卷材線性速度。6：...

放大率問題：光學鏡頭放大率問題，很多客戶可能對鏡頭放大率不了解或者認識不多，所以造成了對鏡頭使用的錯誤操作或者選購不到合適的鏡頭，因此，普密斯光學針對這一問題進行專業的講述，希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數問題。放 大 率 光學放大率影像大小相對于物體的放大...

普萊斯在以上文章中發表的模式是較早基于放射影像所見該機械內部結構之后，提出的較早理論重建模式。他的模式中，機械前方的轉盤**太陽和月球在古埃及歷法上黃道帶的位置。在儀器后面的上方轉盤則顯示一個四年周期，并且和顯示周期為235個朔望月的默冬章相關，這和19個回歸...

能強調前景和突出遠近對比。這是廣角鏡頭的另一個重要性能。所謂強調前景和突出遠近對比，是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強調近大遠小的對比度。也就是說，用廣角鏡頭拍出來的照片，近的東西更大，遠的東西更小，從而讓人感到拉開了距離，在縱深方向上產生強烈的******效果。...

準分子光刻技術作為當前主流的光刻技術，主要包括：特征尺寸為0．1μm的248 nm KrF準分子激光技術；特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準分子激光技術；特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術（Immersion，193i）。其中193...

更精確的齒輪齒數此時也已得知，因此可進一步發展新的齒輪配置模式。更正確的資訊允許萊特可以確認普萊斯建議的后方面板的上方轉盤是顯示235個朔望月，分成五個旋轉量度的默冬章。此外，萊特還提出了驚人的看法，他認為儀器后面的上方轉盤是每次旋轉包含47個部分，總共五個旋...

世界三 大光刻機 生產商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒 式 光 刻 機 樣 機 都 是 在 原 有193nm干式光刻機的基礎上改進研制而成，**降低了研發成本和風險。因為浸沒式光刻系統的原理清晰而且配合現有的光刻技術變動不大，目前193...

視角范圍大，可以涵蓋大范圍景物。所謂視角范圍大，即在同一視點（與被攝物的距離保持不變）用廣角、標準和遠攝三種不同焦距的攝影鏡頭取景，結果是前者要比后者在上下左右拍攝到更多的景物。當攝影者在沒有退路的情況下，若用50毫米標準鏡頭難以完整拍下的景物（如人物集體留影...

攝影者也許會有這樣的體會：在照相機上裝上一個遠攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機取景器中觀察，竟一時無法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開照相機取景目鏡眺望實景，方搞清楚原來是鏡頭視野太窄，它所“見”到的只是人眼通常所見到的畫面中相當小的一部分...

涂底方法：a、氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積，200～250C,30秒鐘；優點：涂底均勻、避免顆粒污染；b、旋轉涂底。缺點：顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的：使表面具有疏水性，增強基底表面與光刻膠的黏附性旋轉涂膠方法：a、靜態涂膠（Stati...

為把193i技術進一步推進到32和22nm的技術節點上，光刻**一直在尋找新的技術，在沒有更好的新光刻技術出現前，兩次曝光技術（或者叫兩次成型技術，DPT）成為人們關 注 的 熱 點。ArF浸沒式兩次曝光技術已被業界認為是32nm節點相當有競爭力的技術；在更低...

光學變焦是通過鏡頭、物體和焦點三方的位置發生變化而產生的。當成像面在水平方向運動的時候，視覺和焦距就會發生變化，更遠的景物變得更清晰，讓人感覺像物體遞進的感覺。顯而易見，要改變視角必然有兩種辦法，一種是改變鏡頭的焦距。用攝影的話來說，這就是光學變焦。通過改變變...

1.氣相成底模2.旋轉烘膠3.軟烘4.對準和曝光5.曝光后烘焙（PEB）6.顯影7.堅膜烘焙8.顯影檢查光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。準分子光刻技術作為...

四是，鏡頭的焦距越長，相機就必須把握得越穩定，以避免影像模糊。經驗準則是只有當快門速度至少等于鏡頭焦距毫米數的倒數時才能夠手持鏡頭進行拍攝，也稱為“安全快門”。也就是說，當快門速度低于1/100秒時就不能手持100mm鏡頭拍攝，低于1/500秒時就不能手持50...

半導體器件和集成電路對光刻曝光技術提出了越來越高的要求，在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規光學的極限。光刻曝光的常用波長是3650～4358 埃，預計實用分辨率約為1微米。幾何光學的原理，允許將波長向下延伸至約2000埃的遠紫外波長，此時可達到的實...

電動三可變鏡頭與自動光圈電動變焦鏡頭相比，只是將對光圈調整電機的控制由自動控制改為由控制器來手動控制。按焦距（約50度左右），廣角鏡頭和特廣角鏡頭（100-120度）標準鏡頭視角約50度，也是人單眼在頭和眼不轉動的情況下所能看到的視角，所以又稱為標準鏡頭。5m...